[发明专利]雾气产生装置、成膜装置、雾气产生方法、成膜方法、及元件制造方法

权利要求书

1.一种雾气产生装置，其产生包含微粒子的雾气，且包含：

第1容器，其保持包含所述微粒子的雾气生成用的第1液体；

第1振动部，其通过对所述第1容器内的所述第1液体赋予用以抑制所述微粒子于所述第1液体中的凝集的第1频率的振动；以及

第2振动部，其对所述第1容器内的所述第1液体赋予高于所述第1频率、且用以自所述第1液体的表面产生包含所述微粒子的雾气的第2频率的振动。

2.如权利要求1所述的雾气产生装置，其中所述第1液体不含界面活性剂。

3.如权利要求1或2所述的雾气产生装置，其进而包含：

第2容器，其保持由第1载气所搬送的所述雾气中液化的所述雾气亦即第2液体；以及

第4振动部，其对所述第2容器内的所述第2液体赋予所述第2频率。

4.如权利要求3所述的雾气产生装置，其进而包含：

第3振动部，其对所述第2液体赋予所述第1频率。

5.如权利要求3所述的雾气产生装置，其具有分隔件，所述分隔件是将所述第2容器的内部空间区隔为存在自所述第1容器搬送而至的所述雾气的第1空间、及存在通过所述第4振动部的振动而自所述第2液体的表面产生的雾气的第2空间，且

将所述第2空间内产生的雾气通过第2载气而搬送至处理部。

6.如权利要求1或2所述的雾气产生装置，其中

所述第1液体包含将凝集的所述微粒子粉碎的粉碎用粒子，且

所述粉碎用粒子的粒径为5～30μm。

7.如权利要求1或2所述的雾气产生装置，其中

所述第1频率为低于1MHz的频率，且

所述第2频率为1MHz以上的频率。

8.如权利要求1或2所述的雾气产生装置，其中

所述微粒子包含金属纳米粒子、有机纳米粒子、及无机纳米粒子中的至少一者。

9.一种成膜装置，其使用包含微粒子的雾气于基板上形成薄膜，且包含：

容器，其保持包含所述微粒子的液体；

第1振动部，其对所述容器内的所述液体赋予第1频率的振动，并抑制所述微粒子的凝集；以及

第2振动部，其对所述液体赋予高于所述第1频率的第2频率的振动，并自所述液体的表面产生包含所述微粒子的雾气。

10.如权利要求9所述的成膜装置，其中所述液体为界面活性剂的含量实质为零的液体。

11.如权利要求9或10所述的成膜装置，其中所述微粒子包含金属纳米粒子、有机纳米粒子、及无机纳米粒子中的至少一者。

12.如权利要求9或10所述的成膜装置，其进而包含气体供给部，该气体供给部对所述容器内供给用以将所述雾气自所述容器搬送的载气。

13.如权利要求12所述的成膜装置，其中

所述载气包含氮气、氦气、氩气中的至少一者。

14.一种雾气产生方法，其是自包含微粒子的液体产生雾气，且包含如下步骤：

通过第1振动部对所述液体赋予第1频率的振动，以抑制所述微粒子于所述液体中的凝集；以及

通过第2振动部对所述液体赋予高于所述第1频率的第2频率、以自所述液体的表面产生包含所述微粒子的雾气。