[发明专利]具有沟槽的激光棒有效

专利信息
申请号: 201780013548.1 申请日: 2017-02-23
公开(公告)号: CN108701967B 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 安德烈亚斯·勒夫勒;克莱门斯·菲尔海利希;斯文·格哈德 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体股份有限两合公司
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;李慧
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 沟槽 激光
【权利要求书】:

1.一种具有半导体层(11)的激光棒(1),所述半导体层具有活跃区域(15)和多个层,其中所述活跃区域(15)布置在xy平面中,其中激光二极管(12)分别在x方向上在所述半导体层(11)的第一端面与第二端面之间形成模式空间(4),其中所述激光二极管(12)的所述模式空间(4)在y方向上并排地布置,其中在两个所述模式空间(4)之间在所述半导体层(11)中设置第一沟槽(3),其中所述第一沟槽(3)沿着所述x方向延伸,并且其中所述第一沟槽(3)从所述半导体层(11)的上侧沿着z方向延伸一个在至所述活跃区域(15)的方向上预先给定的深度,其中所述第一沟槽(3)沿着所述z方向终止在所述半导体层(11)的内部,其中在y方向上在两个所述第一沟槽(3)之间布置有具有第二模式空间的第二激光二极管,其中所述第二模式空间沿着所述x方向在所述半导体层(11)的所述第一端面与所述第二端面之间延伸,其中在布置在两个所述第一沟槽(3)之间的两个所述激光二极管(12)之间设置第二沟槽(7),其中所述第二沟槽(7)沿着所述x方向从所述半导体层(11)的所述第一端面延伸至所述半导体层(11)的所述第二端面,其中所述第二沟槽(7)在所述y方向上具有比第一沟槽(3)更小的宽度,并且其中所述第二沟槽(7)沿着所述z方向延伸并且终止在所述半导体层(11)的内部。

2.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第一沟槽(3)从所述半导体层(11)的上侧沿着所述z方向延伸到所述活跃区域(15)中。

3.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第二激光二极管具有第二模式空间,其中所述第二模式空间沿着所述x方向在所述第一端面与所述第二端面之间延伸。

4.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第二沟槽(7)在所述z方向上具有比第一沟槽(3)更小的深度。

5.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第二沟槽(7)沿着所述z方向延伸到所述激光二极管(12)的所述活跃区域(15)中。

6.根据权利要求1所述的激光棒,其中,在至少一个第二沟槽(7)中布置吸收材料(8),其中所述吸收材料(8)设计用于至少部分地吸收由激光二极管(12)产生的电磁辐射。

7.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述激光棒(1)安装在载体(10)上,其中所述载体(10)构造为散热器。

8.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述激光棒(1)安装在载体(10)上,其中所述载体(10)构造为散热器,其中,所述激光棒(1)利用引入所述第一沟槽(3)的一侧安装到所述载体(10)上。

9.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第一沟槽(3)在所述y方向上具有1μm至100μm的宽度。

10.根据权利要求1所述的激光棒,其中,所述第二沟槽(7)在所述y方向上具有1μm至100μm的宽度。

11.根据权利要求1所述的激光棒,其中,在至少一个第二沟槽(7)中布置吸收材料(8),其中所述吸收材料(8)设计用于至少部分地吸收由激光二极管(12)产生的电磁辐射,其中所述吸收材料(8)被填充到所述第二沟槽(7)中。

12.根据权利要求1所述的激光棒,其中,在至少一个第二沟槽(7)中布置吸收材料(8),其中所述吸收材料(8)设计用于至少部分地吸收由激光二极管(12)产生的电磁辐射,其中所述吸收材料(8)比所述半导体层(11)的材料具有更好的导热性。

13.根据权利要求1所述的激光棒,其中,在至少一个第二沟槽(7)中布置吸收材料(8),其中所述吸收材料(8)设计用于至少部分地吸收由激光二极管(12)产生的电磁辐射,其中所述吸收材料(8)具有金属或者由金属组成。

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