[发明专利]基板

说明书

本申请提供了基板、有机电子器件及其用途。本申请的基板具有包括直接形成在光学功能层的凹凸表面上的电极层的结构，并且在形成有机电子器件时，可以确保优异的功能性例如光提取效率等，以及元件的长时间稳定驱动。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求基于2016年5月23日提交的韩国专利申请第10-2016-0062885号和2017年5月23日提交的韩国专利申请第10-2017-0063554号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本申请涉及基板、有机电子器件、光源和照明装置。

背景技术

有机电子器件(OED)为例如包括至少一个能够运载电流的有机材料层的元件，如日本特许专利公开第H8-176293号中所公开的。作为一种有机电子器件，包括有机发光器件(OLED)、有机太阳能电池、有机光电导体(OPC)或有机晶体管等。

有机发光器件是典型的有机电子器件，通常依次包括基板、第一电极层、有机层和第二电极层。在被称为所谓的底部发射器件的结构中，第一电极层可以由透明电极层形成，并且第二电极层可以由反射电极层形成。此外，在被称为所谓的顶部发射器件的结构中，第一电极层由反射电极层形成，并且第二电极层也由透明电极层形成。由电极层注入的电子和空穴可以在存在于有机层中的发光层中复合以产生光。在底部发射器件中，光可以朝向基板发射，而在顶部发射器件中，光可以朝向第二电极层发射。

发明内容

技术问题

本申请提供了基板、有机电子器件、光源和照明装置。

技术方案

本申请的基板包括依次形成的支撑基础层、光学功能层和电极层。

在本申请的基板中，光学功能层可以是具有凹凸表面的层并且可以是包含散射颗粒的层。基板中的电极层可以直接形成在光学功能层的凹凸表面上。

图1为其中有机电子器件(104)形成在依次包括支撑基础材料(101)、光学功能层(102)和电极层(103)的基板上的情况的示例性图。

光学功能层可以在与支撑基础层相反的表面上具有凹凸表面，其中凹凸表面可以为平均粗糙度(Ra)为5nm或更大且10点平均粗糙度(Rz)为30nm或更大的凹凸表面。此时，电极层可以与凹凸表面接触直接形成在凹凸表面上。

在另一个实例中，凹凸表面的平均粗糙度(Ra)可以为约5.5nm或更大、6nm或更大、6.5nm或更大、7nm或更大、7.5nm或更大、8nm或更大、8.5nm或更大、9nm或更大或者9.5nm或更大。此外，在另一个实例中，10点平均粗糙度(Rz)可以为35nm或更大、40nm或更大、45nm或更大、50nm或更大、55nm或更大、60nm或更大、65nm或更大、70nm或更大或者75nm或更大。平均粗糙度(Ra)和10点平均粗糙度(Rz)的上限没有特别限制，并且可以考虑器件的驱动稳定性来进行调节。在一个实例中，平均粗糙度(Ra)可以为约20nm或更小、19nm或更小、18nm或更小、17nm或更小、16nm或更小、15nm或更小、14nm或更小、13nm或更小、12nm或更小、11nm或更小或者10nm或更小。此外，10点平均粗糙度(Rz)可以为约100nm或更小、95nm或更小、90nm或更小或者85nm或更小。

将凹凸表面的粗糙度控制在上述范围内的方式没有特别限制，并且可以通过例如光学功能层的厚度和/或相应层中包含的颗粒的颗粒直径来控制。