[发明专利]基板有效
申请号: | 201780013232.2 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN109155371B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 金勇男;赵安部;李渊槿;朱文奎;金钟硕 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;G02B1/118;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;赵丹 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 | ||
1.一种基板,包括支撑基础层;形成在所述支撑基础层上的光学功能层;以及形成在所述光学功能层上的电极层,
其中所述光学功能层的与所述支撑基础层相反的表面为平均粗糙度(Ra)为5nm至20nm且10点平均粗糙度(Rz)为30nm至100nm的凹凸表面,
所述光学功能层为包含散射颗粒和基体材料的层,其中所述基体材料包含粘合剂和高折射颗粒,以及
所述电极层形成为与所述光学功能层的所述凹凸表面接触。
2.根据权利要求1所述的基板,其中在所述光学功能层与所述电极层之间不存在平坦层。
3.根据权利要求1所述的基板,其中所述光学功能层为光散射层。
4.根据权利要求1所述的基板,其中所述光学功能层的雾度为20%或更大。
5.根据权利要求1所述的基板,其中所述光学功能层的厚度为150nm或更大。
6.根据权利要求1所述的基板,其中所述光学功能层的厚度在150nm至300nm的范围内且雾度为60%或更大。
7.根据权利要求1所述的基板,其中所述光学功能层形成为包括上层和下层。
8.根据权利要求7所述的基板,其中所述上层的每单位体积的散射颗粒数大于所述下层的每单位体积的散射颗粒数。
9.根据权利要求7所述的基板,其中所述下层的厚度(TL)与所述上层的厚度(TU)的比率(TL/TU)在1至10的范围内。
10.根据权利要求1所述的基板,其中所述基体材料对波长为550nm的光的折射率在1.5至1.75的范围内。
11.根据权利要求10所述的基板,其中所述基体材料包含对波长为550nm的光的折射率在1.4至1.65的范围内的所述粘合剂和对波长为550nm的光的折射率为至少1.5的所述高折射颗粒。
12.根据权利要求11所述的基板,其中相对于100重量份的所述粘合剂,所述基体材料包含50重量份或更多的高折射颗粒。
13.根据权利要求1所述的基板,其中所述电极层为氧化铟锡层。
14.一种有机电子器件,包括:根据权利要求1所述的基板;和存在于所述基板的所述电极层上的具有有机层的元件区域。
15.一种用于显示器的光源,包括根据权利要求14所述的有机电子器件。
16.一种照明装置,包括根据权利要求14所述的有机电子器件。
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