[发明专利]印刷电路板制造用铜箔、带载体的铜箔和覆铜层叠板、以及使用它们的印刷电路板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780012182.6 申请日: 2017-02-15
公开(公告)号: CN108702847B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 松田光由;高梨哲聪;饭田浩人;吉川和广;加藤翼;金子智一 申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/09
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 印刷 电路板 制造 铜箔 载体 层叠 以及 使用 它们 方法
【权利要求书】:

1.一种印刷电路板制造用铜箔,其依次具备第一铜层、蚀刻牺牲层和第二铜层,所述蚀刻牺牲层的蚀刻速率相对于Cu的蚀刻速率之比r大于1.0,其中,将第一铜层的厚度设为d1、将蚀刻牺牲层的厚度设为d2时,满足d2/d1≥r。

2.根据权利要求1所述的铜箔,其中,所述比r为1.2以上。

3.根据权利要求1所述的铜箔,其中,所述蚀刻牺牲层由选自由Cu-Zn合金、Cu-Sn合金、Cu-Mn合金、Cu-Al合金、Cu-Mg合金、Fe金属、Zn金属、Co金属、Mo金属和它们的氧化物组成的组中的至少1种构成。

4.根据权利要求1所述的铜箔,其中,所述蚀刻牺牲层由包含40重量%以上的Zn的Cu-Zn合金构成。

5.根据权利要求1所述的铜箔,其中,所述第一铜层的每单位面积的针孔数为2个/mm2以下。

6.根据权利要求1所述的铜箔,其中,所述第一铜层的厚度d1、所述蚀刻牺牲层的厚度d2和所述第二铜层的厚度d3的总厚度d1+d2+d3小于3.0μm。

7.一种带载体的铜箔,其依次具备载体、剥离层和权利要求1~6中任一项所述的铜箔。

8.一种覆铜层叠板,其具备权利要求1~6中任一项所述的铜箔。

9.一种印刷电路板的制造方法,其特征在于,使用权利要求1~6中任一项所述的铜箔来制造印刷电路板。

10.一种印刷电路板的制造方法,其特征在于,使用权利要求7所述的带载体的铜箔来制造印刷电路板。

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