[发明专利]显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法

说明书

本发明由旋转卡盘来保持已将含有金属的涂布液的膜曝光成规定图案的基板。利用狭缝喷嘴对由旋转卡盘所支承的基板的被处理面供给显影液。利用清洗喷嘴对被供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

技术领域

本发明关于一种对基板进行显影处理的显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法。

背景技术

于半导体器件等的制造中的光刻中，通过向基板表面的基底层上供给抗蚀剂液等涂布液而形成涂布膜。在涂布膜经曝光的后，对涂布膜供给显影液，由此在涂布膜中形成规定图案(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本专利特开2014-75575号公报

发明内容

发明要解决的问题

近年来，为了形成更微细的图案，正研究应用含有金属成分的涂布膜(以下称为含金属涂布膜)。然而，根据发明者的实验，判明存在如下可能性：即便使用冲洗液将显影后的基板清洗，金属成分也不能被完全地去除而产生残存。

若金属成分残存于基板表面的基底层上，则存在由蚀刻而形成的基底层的图案中产生缺陷的情况。因此，基板处理的精度降低。此外，若金属成分附着于基板的端部或背面，则存在具备搬送机构的基板处理装置及邻接的曝光装置产生污染的情况。

本发明的目的在于提供一种可防止金属污染的产生并且使基板处理的精度提升的显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法。

用于解决问题的手段

(1)本发明的一方面的显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；显影液供给部，对由基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及清洗液供给部，对由显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

在该显影单元中，由基板保持部保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板。对由基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液。对供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

根据该构成，即便在供给显影液后的基板的被处理面上附着有溶解于显影液中的含金属涂布膜的金属的情况下，也能够利用清洗液去除该金属或使金属溶解。由此，在供给清洗液之后的基板表面的基底层上不残存金属，故而通过蚀刻而形成的基底层的图案中不会产生由金属引起的缺陷。这样的结果是，可防止金属污染的产生并且使基板处理的精度提升。

(2)也可使基板保持部保持应接受正色调(Positive Tone)显影处理的基板，且显影液包含碱性水溶液，清洗液包含添加有螯合剂的水溶液、碱性水溶液或酸性水溶液。

此时，可将附着于基板的金属容易地去除或容易地使附着于基板的金属溶解。又，无需将显影液及清洗液分离进行回收。由此，可降低显影液及清洗液的废弃成本。

(3)也可使显影单元进一步具备冲洗液供给部，该冲洗液供给部对由清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，且冲洗液包含水溶液。

此时，通过冲洗液将附着于基板的清洗液去除，由此可维持基板更清洁。又，无需将显影液、清洗液及冲洗液分离进行回收。由此，可降低显影液、清洗液及冲洗液的废弃成本。

(4)螯合剂也可包含选自由有机酸、有机酸盐、氨基酸、氨基酸衍生物、无机碱、无机碱盐、烷基胺、烷基胺衍生物、烷醇胺及烷醇胺衍生物所组成的群中的一种或多种。

此时，可在不对含金属涂布膜的图案造成损伤的情况下，将附着于基板的金属充分地去除或使其充分地溶解。由此，可使基板处理的精度进一步提升。