[发明专利]显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法

权利要求书

1.一种显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，上述含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：

基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；

显影液供给部，对由上述基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及

清洗液供给部，对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液，

上述基板保持部保持应接受正色调显影处理的基板，

上述显影液包含碱性水溶液，

上述清洗液包含碱性水溶液、酸性水溶液或添加有螯合剂的水溶液。

2.如权利要求1所述的显影单元，其中，

上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，

上述冲洗液包含水溶液。

3.如权利要求1或2所述的显影单元，其中，

螯合剂包含选自由有机酸、有机酸盐、氨基酸、氨基酸衍生物、无机碱、无机碱盐、烷基胺、烷基胺衍生物、烷醇胺及烷醇胺衍生物所组成的群中的一种或多种。

4.一种显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，上述含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：

基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；

显影液供给部，对由上述基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及

清洗液供给部，对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液，

上述基板保持部保持应接受负色调显影处理的基板，

上述显影液包含有机溶剂，

上述清洗液包含添加有螯合剂的有机溶剂。

5.如权利要求4所述的显影单元，其中，

上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，

上述冲洗液包含有机溶剂。

6.一种显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，上述含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：

基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；

显影液供给部，对由上述基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及

清洗液供给部，对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液，

上述基板保持部保持应接受负色调显影处理的基板，

上述显影液包含有机溶剂，

上述清洗液包含添加有螯合剂的水溶液。

7.如权利要求6所述的显影单元，其中，

上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，

上述冲洗液包含水溶液。

8.如权利要求4至7中任一项所述的显影单元，其中，

上述螯合剂包含有机酸或有机酸盐。

9.如权利要求1、2、4～7中任一项所述的显影单元，其中，

在清洗液中进一步添加界面活性剂。

10.如权利要求1、2、4～7中任一项所述的显影单元，其中，

上述显影单元进一步具备背面清洗部，上述背面清洗部对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的与被处理面相反的一侧的背面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。