[发明专利]黑化镀液、导电性基板的制造方法在审
申请号: | 201780008194.1 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN108603302A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 下地匠;志贺大树 | 申请(专利权)人: | 住友金属矿山株式会社 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;B32B15/08;C25D5/56 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;钟海胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜离子 锌离子 镀液 黑化 导电性基板 氨基磺酸 镍离子 制造 | ||
【权利要求书】:
1.一种黑化镀液,其包含:镍离子、锌离子、铜离子、氨基磺酸、以及氨,
其中,锌离子浓度为0.34g/l以上,铜离子浓度为0.20g/l以上。
2.根据权利要求1所述的黑化镀液,其中,pH值为4.0以上6.5以下。
3.一种导电性基板的制造方法,其包括:
铜层形成步骤,在透明基材的至少一个面上形成铜层;以及
黑化层形成步骤,使用根据权利要求1或2所述的黑化镀液在所述铜层上形成黑化层。
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