[实用新型]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构有效

专利信息
申请号: 201721911113.2 申请日: 2017-12-30
公开(公告)号: CN207958476U 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 彭春超;蒋继文;朱登华;刘小雨 申请(专利权)人: 凯盛光伏材料有限公司
主分类号: C23C8/08 分类号: C23C8/08
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 硒化炉 喷气管 铜铟镓硒薄膜太阳能电池 本实用新型 布气结构 炉壁 辅助加热器 工艺气体 排气孔 侧壁
【说明书】:

实用新型提供一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构,它包括硒化炉(1),其特征在于:在硒化炉(1)的至少一面侧壁上设有一组排气孔(2),在硒化炉(1)另一侧的炉壁内设有喷气管(3),在喷气管(3)一侧的炉壁上设有RF辅助加热器(4)。本实用新型结构简单、使用方便、喷气均匀,有效的避免了喷气管正下方工艺气体浓度过高的问题。

技术领域:

本实用新型涉及铜铟镓硒薄膜太阳能电池生产设备领域,具体地说就是一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构。

背景技术:

铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池属于化合物半导体太阳能电池,量产化平均光电转换效率已经大于16%,是光电转换效率最高的薄膜太阳能电池之一,具有无衰减、更适合建筑一体化、外观漂亮、生产过程低能耗无污染、高温发电能力强等优点,可以取代晶体硅太阳能电池占领部分市场。

在使用现有硒化设备生产铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池时,常常出现由于硒化设备布气均匀度差,设备内温度不均匀,造成基片硒化工艺效果均匀差,影响了产品的质量。

实用新型内容:

本实用新型就是为了克服现有技术中的不足,提供一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构。

本实用新型提供以下技术方案:

一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构,它包括硒化炉,其特征在于:在硒化炉的至少一面炉壁上设有一组排气孔,在硒化炉顶部炉壁内设有至少两根喷气管,在喷气管一侧的炉壁上设有RF辅助加热器,在所述的喷气管上沿其轴向设有至少两组喷气孔。

在上述技术方案的基础上,还可以有以下进一步的技术方案:

所述两组喷气孔的孔径相同或不同。

所述的喷气管与RF辅助加热器成间隔设置。

所述的一组排气孔为成排间隔分布或均布在硒化炉的炉壁上。

实用新型优点:

本实用新型结构简单、使用方便,通过在炉壁上设置RF辅助加热器的方式有效的确保了硒化炉内温度均匀性,在喷气管上设置至少两组喷气孔有效的分散了气流,避免了现有喷气管上单组喷气孔造成的气孔正下方工艺气体浓度过高的问题,而喷气管上不同孔径的喷气孔又能进一步的分散气流,使得硒化炉内气体分布更加均匀性。可见本实用新型能有效的提高基片的硒化工艺效果,确保产品质量,降低了成本,提高了产品的竞争力。

附图说明:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是图1中喷淋管的结构示意图。

具体实施方式:

如图1和2所示,一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池硒化炉的布气结构,它包括硒化炉1,在硒化炉1炉壁内的顶部沿硒化炉长度方向吊设有三根平行分布的喷气管3,所述的喷气管的直径在0~2000mm之间,长度在0~10m之间。在相邻的两根喷气管之间均吊设有与喷气管平行的RF辅助加热器4。通过RF辅助加热器有效的确保了硒化炉内温度的均匀性。

在所述的喷气管3管壁下部设有沿其长度方向设有三组喷气孔,其中有两组直径相同的大喷气孔3a的直径相同,在两组相同直径的大喷气孔3a之间还设有一组沿喷气管3长度分布的直径较小的小喷气孔3b。这就使得工艺气体从喷气管中喷出时更容易扩散,工艺气体在基片表面浓度的均匀性。所述的喷气孔的外形可以为圆形、矩形、三角形等各种形状,且同组喷气孔的外形可以相同也可不同。

在硒化炉1底部设有一组排气孔2,相邻的排气孔之间的间距可以为0.5mm,密集排布的排气孔可以提高沿基片表面方向气体流动的均匀性。分布在硒化炉1底部的一组排气孔2为多排间隔分布或均布在硒化炉1底部上。根据现实需要也可以在硒化炉两侧的炉壁以及炉壁顶部上也设有排气孔2。

以上描述仅仅是本实用新型的最佳实施例,如果本领域的其他技术人员改变了排气孔的排数,排气孔的形状,排气孔的数量,排气孔的直径,喷淋管的数量,喷气孔的形状,喷气孔的数量,喷气孔的直径等,只要仍然在硒化炉使用喷淋管布气,通过排气孔排气,就没有跳出本实用新型的权限,仍在本实用新型的保护范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凯盛光伏材料有限公司,未经凯盛光伏材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721911113.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top