[实用新型]一种多通道集成滤光片的光隔离结构

说明书

本实用新型揭示了一种多通道集成滤光片的光隔离结构，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；还包括消光层，消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成。本实用新型通过真空镀膜工艺在基片表面上设置黑铬金属膜层和由四层氧化物光学薄膜组成的消光层，利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用消光层消除黑铬金属膜层表面的反射光，可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能。

技术领域

本实用新型涉及光学仪器技术领域，具体涉及一种多通道集成滤光片的光隔离结构。

背景技术

在对地遥感和观察卫星上使用的光学成像系统，由于其高可靠性要求和苛刻的体积要求，在光路中常常采用多通道集成滤光片来实现不同波长光的分离。多通道集成滤光片是将若干个通道的窄带滤光片通过特殊的多道工艺依次制备在同一块基片上形成的。通道间的隔离就要使用光隔离结构，以实现对通道间的空白区域涂黑，阻止光线通过空白区，避免引起通道间信号的串扰；同时光隔离结构又要不引起入射光线的反射，以免剩余反射的光线经过多次反射后引起信号噪声。这就要求光隔离结构具备两个作用：一、阻止光线通过(在要求波段上透过率低)；二、消光(在要求波段上具有低的剩余反射率)。

现有技术中，通常采用在通道间的空白区域涂上黑漆的方式形成光隔离结构，虽然能满足光学透过性能低的要求，但达不到消光目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多通道集成滤光片的光隔离结构。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种多通道集成滤光片的光隔离结构，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；

还包括消光层，所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成，所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上，所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上，所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上，所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。

相对于现有技术，本实用新型的技术效果在于：

本实用新型通过真空镀膜工艺在基片表面上设置黑铬金属膜层和由四层氧化物光学薄膜组成的消光层，利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用消光层消除黑铬金属膜层表面的反射光，可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能。

附图说明

图1是本实用新型实施方式中一种多通道集成滤光片的光隔离结构的结构示意图；

图2是本实用新型实施方式中一种多通道集成滤光片的光隔离结构另一个视角的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

以下提供本实用新型的一种实施方式：

图1至2中的多通道集成滤光片的光隔离结构，具体为双通道集成滤光片的光隔离结构，仅仅是示例性说明，不应理解为对本实用新型的限制。在其它实施方式中，光隔离结构也可以应用于三通道等具有更多通道的集成滤光片上。