[实用新型]流体流量调节装置及流体输送设备有效
申请号: | 201721833469.9 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN207602530U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 刘现营 | 申请(专利权)人: | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 上海市松*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体流量调节装置 本实用新型 抵接件 支撑件 流体传输装置 流体输送设备 板设置 松开 挤压 便利 支撑 | ||
1.一种流体流量调节装置,其特征在于,包括:
支撑件;
保持板,所述保持板设置在所述支撑件上,所述保持板用于支撑流体传输装置;及
抵接件,所述抵接件设置在所述支撑件上,并与所述保持板正对设置;所述抵接件相对于所述保持板可靠近及远离地设置,以挤压及松开流体传输装置。
2.根据权利要求1所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述支撑件包括支撑柱及安装板;
所述安装板设置在所述支撑柱上;
所述保持板设置在所述支撑柱上,并可与所述安装板正对设置;
所述抵接件设置在所述安装板上。
3.根据权利要求2所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述安装板上设置有螺纹孔;
所述抵接件包括螺杆;
所述螺杆与所述螺纹孔螺纹配合并可旋紧及旋松地设置,以使得所述抵接件可靠近及远离所述保持板地设置。
4.根据权利要求2所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述保持板相对于所述支撑柱可转动地设置,以可使得所述保持板转动至与至少部分所述安装板错位设置。
5.根据权利要求2所述的流体流量调节装置,其特征在于,还包括:
第二支撑柱,所述第二支撑柱与所述支撑柱间隔设置;
所述安装板同时设置在所述第二支撑柱及所述支撑柱上。
6.根据权利要求5所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述保持板相对于所述支撑柱可转动地设置;
所述保持板设置有夹持部;
所述夹持部可夹持及松开所述第二支撑柱地设置。
7.根据权利要求6所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述第二支撑柱的自由端设置有台阶;
所述流体流量调节装置还包括紧固螺母;
所述紧固螺母与所述第二支撑柱的自由端通过螺纹紧固配合;
所述夹持部设置在所述紧固螺母与所述台阶之间。
8.根据权利要求1所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述保持板上设置有限位槽;
所述限位槽用于容置部分流体传输装置。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的流体流量调节装置,其特征在于,还包括:
驱动装置,所述驱动装置可驱动所述抵接件靠近及远离所述保持板地设置。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述流体流量调节装置用于半导体湿法加工设备。
11.根据权利要求1至8中任一项所述的流体流量调节装置,其特征在于:
所述流体流量调节装置为可产生紊流的调节装置。
12.一种流体输送设备,其特征在于,包括:
根据权利要求1至11中任一项所述的流体流量调节装置;及
流体传输装置,所述流体传输装置延伸至所述保持板上。
13.根据权利要求12所述的流体输送设备,其特征在于:
所述流体传输装置包括传输管及保持管;
所述保持管套设在所述传输管的外周壁上;且
所述保持管为范性形变结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造