[实用新型]夹具及等离子体沉积设备有效

专利信息
申请号: 201721829598.0 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN207727149U 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 张志强;张二辉;丁伟 申请(专利权)人: 上海稷以科技有限公司
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513;C23C16/458
代理公司: 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 代理人: 杨楷;毛立群
地址: 200241 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 夹具 承接件 支撑板 等离子体沉积设备 本实用新型 等离子体气相沉积 被限位件 沉积效率 气相沉积 样品表面 电极板 均匀性 竖直 位件 垂直
【说明书】:

实用新型涉及气相沉积技术领域,公开了一种夹具以及设置有该夹具的等离子体沉积设备。夹具包括:承接件,承接件为多个且隔开地设置;支撑板,支撑板为多个且承接件位于支撑板之间;在承接件上设置有限位件,样品沿竖直方向被限位件固定在两个承接件之间。本实用新型使样品垂直于电极板放置在夹具上,能够改善样品表面等离子体气相沉积的均匀性并提高沉积效率。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积技术领域,特别涉及一种夹具以及应用了该夹具的等离子体沉积设备。

背景技术

等离子气相沉积技术是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间生成固态膜的技术。

通常将作为材料的气态原子、分子或离子等形成等离子体,在真空条件下,利用高频或直流电场作用,以低温等离子体作为能量源,通入适量的气体,利用等离子体放电,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

现有技术已提供一种真空等离子体沉积设备,由射频电源、电极板、腔室等组成。其中各个电极板等间距排布,在两个电极板之间放置夹具,样品平行于电极板放置在夹具上,样品之间留有间隔。

由于样品水平置于夹具上,因此当气流从样品与样品之间的间隔流过时,受到的阻力较大,导致样品两侧的气压大小往往存在差距。最终使得样品的两个面的沉积速率不一样,影响沉积结果,会出现沉积不均匀、表面粗糙等问题。同时,样品水平放置,所占空间较大,一次沉积的样品数量有限,影响生产效率。

并且在现有技术中,夹具通常不可调节,对于不同尺寸的样品需要适配不同的夹具,大幅增加了生产成本,因此需要做出改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种夹具以及应用了该种夹具的等离子体沉积设备。本实用新型能够改善样品表面等离子体气相沉积的均匀性并提高沉积效率。

具体来说,本实用新型提供了一种夹具,用于保持并固定样品,包括:承接件,承接件为多个且隔开地设置;支撑板,支撑板为多个且承接件位于支撑板之间;

在承接件上设置有限位件,样品沿竖直方向被限位件固定在两个承接件之间。

相较于现有技术而言,本实用新型提供的夹具,利用限位件和承接件固定样品,能够让样品垂直于电极板地设置在夹具上,改善气流的分布情况,并使气压平衡,减小同一样品两侧的气压差距,大幅提高样品两侧气相沉积的均匀性。并且,由于样品采用竖直的方式设置在夹具上,因此在不改变夹具尺寸的情况下,能够安置数量更多的样品。

本实用新型还提供了一种等离子体沉积设备,包括腔体和设置在腔体内的上述夹具。

与现有技术相比,本实用新型提供的真空等离子体沉积设备能够适应不同尺寸样品的气相沉积,并缩小每个样品两侧的沉积差距,提高样品的沉积品质。并且,能够在一次沉积过程中完成对更多样品的沉积,大幅提高生产效率。

作为优选,在限位件上沿长度方向设置有供样品插入的凹槽,并且凹槽的宽度大于样品的厚度。

由于样品垂直电极板地设置在夹具上,因此与夹具的接触面积较小。在限位件上设置凹槽可以对样品起到良好的支撑效果。同时,凹槽具有一定的定位效果,使不同样品基本平行设置在两个限位件之间,降低不同样品的沉积差距。并且凹槽宽度略大于样品的厚度,使得样品装卸过程更加容易。

进一步地,作为优选,限位件为多个且互相平行地设置在承接件上。

将限位件相互平行地设置在承接件上,可以使得不同限位件之间的样品也能够相互平行放置。进而缩小不同样品之间沉积品质的差距,使得每个样品的沉积膜厚度处于一定范围内。

进一步地,作为优选,限位件设置成能够相对于支撑板移动。

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