[实用新型]夹具及等离子体沉积设备有效
| 申请号： | 201721829598.0 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN207727149U | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 张志强;张二辉;丁伟 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 200241 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 夹具 承接件 支撑板 等离子体沉积设备 本实用新型 等离子体气相沉积 被限位件 沉积效率 气相沉积 样品表面 电极板 均匀性 竖直 位件 垂直 | ||
1.一种夹具(1)，用于保持并固定样品，其特征在于，
所述夹具(1)包括：承接件(2)，所述承接件(2)为多个且隔开地设置；支撑板(3)，所述支撑板(3)为多个且所述承接件(2)位于所述支撑板(3)之间；
在所述承接件(2)上设置有限位件(4)，所述样品沿竖直方向被所述限位件(4)固定在两个所述承接件(2)之间。
2.根据权利要求1所述的夹具(1)，其特征在于，在所述限位件(4)上沿长度方向设置有供所述样品插入的凹槽(41)，并且所述凹槽(41)的宽度大于所述样品的厚度。
3.根据权利要求2所述的夹具(1)，其特征在于，所述限位件(4)为多个且互相平行地设置在所述承接件(2)上方。
4.根据权利要求1-3任一项所述的夹具(1)，其特征在于，所述限位件(4)设置成能够相对于所述支撑板(3)移动。
5.根据权利要求4所述的夹具(1)，其特征在于，还包括高度调节件(5)，能够调节所述限位件(4)的高度。
6.根据权利要求5所述的夹具(1)，其特征在于，所述高度调节件(5)包括设置在所述支撑板(3)上的导轨(51)和设置在所述导轨(51)上的止动件(52)以及设置在所述限位件(4)上的滑块(53)；
所述导轨(51)沿支撑板(3)的高度方向设置，并且所述导轨(51)可拆卸地安装所述支撑板(3)上。
7.根据权利要求6所述的夹具(1)，其特征在于，所述夹具(1)还包括宽度调节件(6)，能够调节所述承接件(2)之间的距离。
8.根据权利要求7所述的夹具(1)，其特征在于，所述宽度调节件(6)包括：设置在所述支撑板(3)上的开口(61)，所述导轨(51)能够在所述开口(61)中运动。
9.根据权利要求1所述的夹具(1)，其特征在于，在所述支撑板(3)上和所述承接件(2)上还阵列设置有通气孔(7)。
10.一种等离子体沉积设备，包括腔体(10)和设置在所述腔体(10)内的如权利要求1至9中任意一项所述的夹具(1)。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
