[实用新型]真空镀膜机镀膜阴极改进结构

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机镀膜阴极改进结构，包括真空壳体、放料辊、放料电机、操作台、靶材、阴极、阴极工作槽、若干组磁场线圈、收料辊和收料电机，放料辊、收料辊分别设于真空壳体外部两端，放料电机、收料电机分别对应驱动放料辊和收料辊，操作台设于真空壳体内，靶材设置在操作台上，阴极工作槽设置在靶材上且长宽尺寸为1.68mX0.4m，阴极固定在真空壳体顶部，磁场线圈缠绕在靶材上且相互间隔0.1m，所述真空壳体两端分别开有进料口、出料口，所述进料口、出料口上都设有防漏气海绵；收放料外置更换时无需打开壳体，操作简单效率高，并增加阴极工作槽宽度，大大提高镀膜速度效率，提高靶材利用率，同时磁场线圈调整也完全可匹配。

技术领域

本实用新型属于生产设备改进领域，特别涉及一种用于真空镀膜机上的镀膜阴极改进结构。

背景技术

电子产品上用到的功能膜基本都是通过真空镀膜完成的，通过阴极放电方式把功能膜镀到基材上，就目前所用的镀膜机来说，可以满足基本的需求，但是也存在较大的缺陷，收放料都设于真空壳体内，当需要更换料时需要把壳体打开，换完后需要再次抽真空，操作麻烦效率低，操作难度大，另外阴极工作槽长宽最大只有1.68mX0.2m，这种规格的工作槽镀膜速度效率不高，同时靶材的利用率也不高，磁场线圈也无法匹配要求，如果能够在一定程度上加宽阴极工作槽可有效提高镀膜速度效率及靶材利用率，上述问题便可有效解决。

本实用新型要解决的技术问题是提供一种操作简单效率高、镀膜速度效率高、靶材利用率高、磁场强度能够满足要求的真空镀膜机镀膜阴极改进结构。

实用新型内容

为解决上述现有技术操作麻烦效率低、镀膜速度效率低、靶材利用率低、磁场线圈无法匹配要求等问题，本实用新型采用如下技术方案：

本实用新型提供一种真空镀膜机镀膜阴极改进结构，包括真空壳体、放料辊、放料电机、操作台、靶材、阴极、阴极工作槽、若干组磁场线圈、收料辊和收料电机，所述放料辊、收料辊分别设于真空壳体外部两端，所述放料电机、收料电机分别对应驱动放料辊和收料辊，所述操作台设于真空壳体内，所述靶材设置在操作台上，所述阴极工作槽设置在靶材上且长宽尺寸为1.68mX0.4m，所述阴极固定在真空壳体顶部，所述磁场线圈缠绕在靶材上且相互间隔0.1m，所述真空壳体两端分别开有进料口、出料口，所述进料口、出料口上都设有防漏气海绵。

本实用新型的有益效果在于：收放料外置更换时无需打开壳体，操作简单效率高，并增加阴极工作槽宽度，大大提高镀膜速度效率，提高靶材利用率，同时磁场线圈调整也完全可匹配。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例的结构示意图。

图2为本实用新型中阴极工作槽放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施例。

请参阅图1，一种真空镀膜机镀膜操作台改进结构，包括真空壳体1、放料辊2、放料电机3、操作台4、靶材5、阴极61、阴极工作槽62、若干组磁场线圈7、收料辊8和收料电机9，所述放料辊2、收料辊8分别设于真空壳体1外部两端，所述放料电机3、收料电机9分别对应驱动放料辊2和收料辊8，所述操作台4设于真空壳体1内，所述靶材5设置在操作台4上，所述阴极工作槽61设置在靶材5上且长宽尺寸为1.68mX0.4m（如图2所示，图中虚线为传统阴极工作槽宽度），所述阴极61固定在真空壳体1顶部，所述磁场线圈7缠绕在靶材5上且相互间隔0.1m，所述真空壳体1两端分别开有进料口11、出料口12，所述进料口11、出料口12上都设有防漏气海绵13，最大限度阻断气体流通，通过把收放料放置到真空壳体外，在基材用完需要更换时也无需打开壳体，无需再次抽真空，操作简单效率高，并把传统的阴极工作槽宽度从最大的0.2m增加到0.4m，同时把磁场线圈间距调整好使其可以完全匹配，这样即可大大提高镀膜速度效率并提高靶材利用率。

上述实施例和图式并非限定本实用新型的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。