[实用新型]高浓度溶氧水的合成装置有效
| 申请号: | 201721780712.5 | 申请日: | 2017-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN207958041U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
| 发明(设计)人: | 曾宪群 | 申请(专利权)人: | 曾宪群 |
| 主分类号: | C02F9/12 | 分类号: | C02F9/12 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 合成装置 高浓度溶氧水 溶氧 本实用新型 流量控制 合成 磁化 除臭杀菌装置 控制计算机 流量控制阀 磁化装置 过滤装置 装置设计 水分子 氧分子 包覆 除臭 杀菌 | ||
1.一种高浓度溶氧水的合成装置,其特征在于:
该合成装置包括依次连接的过滤装置、磁化装置、流量控制阀、控制计算机及合成反应槽,使水经由过滤装置进行过滤重金属、杂质,再经磁化装置将水分子进行微细化处理,于该磁化装置后,续设有一流量控制阀,并通过控制计算机控制该流量控制阀以控制水进入合成反应槽的流量,同时于该流量控制阀处导入高溶氧液,并由该流量控制阀控制水及该高溶氧液所预设的混合比例,其中水是以1000mL/min至10000mL/min的流量控制进行与高溶氧液的合成,而高溶氧液的流量则视与水间所需的混合比例而由该流量控制阀予以调整,水及高溶氧液经控制流量后则进入一合成反应槽内进行反应合成,水及高溶氧液于该合成反应槽内的反应合成时间为10-30分钟,并通过一由该控制计算机控制的温控器将该合成反应槽内的温度控制在水温为5℃至45℃间,使水及高溶氧液于该合成反应槽内使高溶氧液中的氧分子与水的水分子进行包覆结合,进而形成每公升为300-1000PPM或更高含氧量的高浓度溶氧水,再经装填完成。
2.如权利要求1所述的合成装置,其特征在于,所述合成装置另包括一除臭杀菌装置,以对水进行消除异味及杀菌。
3.如权利要求1所述的合成装置,其特征在于,其中待处理的水是指于常温常压下由H2O分子所构成的基本液态物质。
4.如权利要求3所述的合成装置,其特征在于,由H2O分子所构成的基本液态物质中还包含钙离子、镁离子、钾离子、钠离子或氯离子。
5.如权利要求1所述的合成装置,其特征在于,其中待处理的水是经处理或未经处理的水,包括市售的各种瓶装水、自来水、矿泉水、纯净水、蒸馏水、磁化水、电解水、离子水、生态水以及逆渗透水。
6.如权利要求1所述的合成装置,其特征在于,经该合成装置处理后的每公升水的含氧量是由高溶氧液与水的流量进行个别比例的调整,而得到不同含氧量的高浓度溶氧水。
7.如权利要求2所述的合成装置,其特征在于,该除臭杀菌装置是设于过滤装置与磁化装置之间。
8.如权利要求2所述的合成装置,其特征在于,该除臭杀菌装置是使用臭氧或紫外线进行除臭杀菌的。
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