[实用新型]一种触控传感器

说明书

本实用新型提供一种触控传感器，包括基板，所述基板上设置有若干沟槽，所述沟槽内填充有导电材料，形成触控导电图案；还包括导电薄膜，所述导电薄膜与基板具有沟槽的一侧贴合，构成触控传感器的电功能回路。本实用新型直接在基板上开设沟槽，形成串并联线路，然后在沟槽内填充导电材料形成触控导电图案，大幅降低生产成本，提高生产效率，本实用新型导电率高，优良率高。

技术领域

本实用新型属于触控技术领域，涉及一种触控传感器。

背景技术

触控传感器是一种非常适合人机交互的绝对定位系统，能够实现手指的简单动作即可完成显示界面的复杂操作。传统电容屏的基本结构为发射层、粘贴层、接收层、粘贴层和盖板玻璃。但是随着移动终端、可穿戴设备、智能家电、教育黑板等产品的发展，对触摸屏的需求在不断增大，同时对触摸屏的要求也越来越高。大尺寸触摸屏的要求和需求也越来越大。但是传统方式制作电容屏的工序复杂，设备较多且昂贵，所用药水较多、工序步骤繁杂，生产过程中会产生许多有害物质，对操作人员及环境均会造成伤害或破坏。

传统方式制作电容屏，需要在基板上涂上一层导电银浆，再根据图案需要在涂抹的导电银浆层上蚀刻出图案，工序复杂。如，申请号为201210084785.6的发明专利申请公开了一种ITO过桥一体式电容触摸屏的制造方法，经过ITO过桥电极后的透明基板，在其ITO膜面涂布一层厚度均匀的负性光阻材料，光阻涂布厚度为0.5μm～3μm；经过光阻预烤，曝光，显影，最终形成厚度为0.5～3μm和规则的绝缘层图案；ITO电极层的形成：形成第一绝缘层的透明基板，再次经过ITO镀膜，使在玻璃基板上形成一层透明及厚度均匀的ITO膜层，其厚度为50埃米～2000埃米；经过ITO镀膜的透明基板，在其ITO表面涂布一层厚度均匀的正性光阻材料，光阻涂布厚度为1μm～5μm；经过光阻预烤，曝光，显影，蚀刻，脱光阻膜，最终形成厚度为50～2000埃米及规则ITO图案或电极；金属电极层的形成：形成ITO电极层的透明基板，经过金属镀膜，使之在透明基板上形成一层厚度均匀的金属膜层，其厚度为500埃米～4000埃米；经过金属镀膜的透明基板，在其金属表面涂布一层厚度均匀的正性光阻材料，光阻涂布厚度为1μm～5μm；经过光阻预烤，曝光，显影，蚀刻，脱光阻膜，最终形成厚度为500～4000埃米及规则金属图案或电极；第二绝缘层的形成：经过金属电极后的透明基板，在其金属膜面涂布一层厚度均匀的负性光阻材料，光阻涂布厚度为0.5μm～3μm；经过光阻预烤，曝光，显影，最终形成厚度为0.5～3μm和规则的绝缘层图案。申请号为201110252555.1的发明专利申请公开了一种电容式触摸屏的其制造方法，在PET基膜上制备一层ITO导电膜，采用丝网印刷技术在ITO导电膜上印制遮盖油墨图案层；用酸蚀刻掉没有被油墨遮盖部分的ITO导电膜；去掉所述遮盖油墨图案层，形成电容屏需要的ITO导电图案层；采用丝网印刷技术印制银浆电极并得到PET薄膜结构件；将两片PET薄膜结构件和一片面板玻璃依次用光学胶贴合在一起，形成结构完整的新型电容式触摸屏。

有鉴于此，有必要对现有的触摸屏的制备方法及其触触摸屏的结构予以改进，以解决上述问题。

发明内容

为解决现有技术存在的问题，本实用新型提供一种触控传感器，该触控传感器的制作工艺简单，相对于现有技术，减少了制作工序，大幅降低生产成本，提高生产效率。

本实用新型提供的触控传感器，包括基板，所述基板上设置有若干沟槽，所述沟槽内填充有导电材料，形成触控导电图案；还包括导电薄膜，所述导电薄膜与基板具有沟槽的一侧贴合，构成触控传感器的电功能回路。

本实用新型直接在基板上开设沟槽，形成串并联线路，然后在沟槽内填充导电材料形成触控导电图案，避免了直接在基板上涂抹一层导电材料，再在导电材料层上蚀刻出导电图案，大幅降低生产成本，提高生产效率，本实用新型导电率高，优良率高。

本实用新型所述沟槽的宽度为0.1-1000μm。所述沟槽的截面为倒三角形、方形或U形。所述导电材料为导电银浆、导电铜浆、纳米银浆料或纳米铜浆料。