[实用新型]用于产生等离子体的天线结构体

说明书

本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体天线结构体，包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线，所述角部以与所述角部的两侧连接的边部形成钝角的方式折弯地形成。

技术领域

本实用新型涉及一种用于产生等离子体的天线结构体(Antenna structure forplasma)，特别是生成等离子体并对显示面板等的基板实施处理的用于产生等离子体的天线结构体。

背景技术

在使用等离子体对基板实施CVD、蚀刻等处理的装置中，比较多地使用对包含天线的装置施加高频电力，从而在天线周围形成感应电场并产生等离子体的方式。

另一方面，随着被处理基板的大型化，处理装置也逐渐大型化，为了对大型化的基板实施均匀的处理，使用具有多个天线的基板处理装置渐渐变得普遍。

当具有多个天线的情况下，由于天线的阻抗不均衡或装置内的环境问题，可能会导致施加到各天线的高频电力互不相同，以至等离子体在各区域不均匀地产生，即使施加到各天线的高频电力几乎相同，也会由于处理装置内的环境问题等，而导致等离子体在各区域不均匀地产生或导致对基板的处理不均匀。

实用新型内容

技术问题

本实用新型的目的在于，提供一种能够生成均匀的等离子体的用于产生等离子体的天线结构体。

本实用新型的目的不限于上述提及的目的，本领域普通技术人员可通过下面的记载明确地理解没有提及的其他目的。

技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体天线结构体，包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线，所述角部以与所述角部的两侧连接的边部形成钝角的方式折弯地形成。

为解决所述技术问题，本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体的天线结构体，包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线，在所述角部内所述天线导线形成为圆弧。

所述天线的所述角部中至少一部分可以以与被收容在所述处理室内的被处理基板的对角线重叠的方式位于所述被处理基板的上部。

所述天线导线的所述角部中位于最外廓的外廓角部为了不与被收容在所述处理室内的被处理基板重叠，可以位于所述被处理基板的角部的外侧。

在所述天线导线中除了所述外廓角部的其他部分可以与所述被处理基板重叠。

在所述天线导线中，与所述角部的两侧连接的边部可以以相互垂直的方式被配置。

所述天线导线以至少形成一个台阶的方式弯曲地形成，所述天线导线连接所述台阶并至少折弯两次而形成。

在所述角部内所述天线导线可以形成钝角并折弯多次地形成。

本实用新型的其他具体事项包含在详细描述和随附图示当中。

有益效果

根据本实用新型的实施例至少具有下述的效果。

可以使被处理基板的中央部和角部的等离子体密度偏差最小化并提高等离子体的均匀性。

本实用新型的效果不限于所述提及的内容，本说明将包含其他更多的技术效果。

附图说明

图1是表示本实用新型的一个实施例的等离子体处理装置的概要图。

图2是表示图1的框架结构体及窗的平面图。