[实用新型]一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架有效

专利信息
申请号: 201721587523.6 申请日: 2017-11-24
公开(公告)号: CN207398062U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 刘向伟;刘善石 申请(专利权)人: 昆山索坤莱机电科技有限公司
主分类号: H01J37/20 分类号: H01J37/20;H01L21/673
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 处理 真空 箱体 指纹 模组 物料
【说明书】:

本实用新型公开了一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架,真空箱体内两侧为固定侧板,固定侧板上设有若干绝缘滑道,物料架通过绝缘滑道设置在真空箱体内,物料架的上方安装有极板,所述物料架由物料托架和物料载具组成,所述物料托架上设有若干均匀排布设置的圆形的物料载具,物料载具底部通过支撑柱固定在物料托架上,所述物料载具的表面设有若干用于放置指纹模组的载物槽,所述物料托架上设有若干通气孔。此种结构物料托架开方形通气口,保证每个产品都能均匀的处理到,提高处理后产品表面能的均匀性,达到最佳处理效果。有序摆放位置,合理的利用了真空箱室内部空间,提高每次工作处理产量。

技术领域

本实用新型涉及等离子表面处理设备技术领域,特别涉及一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架。

背景技术

等离子体表面处理设备已广泛应用于PCB制造、电子电路、电子电器、汽车制造、半导体制造、包装、印刷、涂覆、高分子材料、塑胶五金、医疗器械、灭菌等行业,目前已经成为中国最大的真空等离子体处理设备生产领域,产品面涉及极为广泛,目前,在等离子表面处理设备的真空箱体内的普通真空箱室物料托架结构简单,没有针对性,处理产品时箱体内空间利用不足,严重影响处理产量。只能用料盒处理,处理后产品表面能不均匀,影响后期产品质量。

发明内容

为了克服上述缺陷,本实用新型提供了一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架,专门用在整套治具装载后指纹模组处理,省去了中间工序,节省了生产时间,提高工作效率。

本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架,真空箱体内两侧为固定侧板,固定侧板上设有若干绝缘滑道,物料架通过绝缘滑道设置在真空箱体内,物料架的上方安装有极板,所述物料架由物料托架和物料载具组成,所述物料托架上设有若干均匀排布设置的圆形的物料载具,物料载具底部通过支撑柱固定在物料托架上,所述物料载具的表面设有若干用于放置指纹模组的载物槽,所述物料托架上设有若干通气孔。

作为本实用新型的进一步改进,所述通气孔为方形通气孔。

本实用新型的有益效果是:本实用新型的等离子处理真空箱体指纹模组物料架专门用在整套治具装载后指纹模组处理,省去了中间工序,节省了生产时间,提高工作效率。此种结构物料托架开方形通气口,保证每个产品都能均匀的处理到,提高处理后产品表面能的均匀性,达到最佳处理效果。有序摆放位置,合理的利用了真空箱室内部空间,提高每次工作处理产量。

附图说明

图1为本实用新型真空箱体整体结构示意图;

图2 为本实用新型结构示意图;

图中标示:1-真空箱体;2-固定侧板;3-绝缘滑道;4-物料架;5-极板;6-物料托架;7-物料载具;8-支撑柱;9-载物槽;10-通气孔。

具体实施方式

为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型保护范围的限定。

图1-2示出了本实用新型一种等离子处理真空箱体指纹模组物料架的一种实施方式,真空箱体1内两侧为固定侧板2,固定侧板2上设有若干绝缘滑道3,物料架4通过绝缘滑道3设置在真空箱体1内,物料架4的上方安装有极板5,所述物料架4由物料托架6和物料载具7组成,所述物料托架6上设有若干均匀排布设置的圆形的物料载具7,物料载具7底部通过支撑柱8固定在物料托架6上,所述物料载具7的表面设有若干用于放置指纹模组的载物槽9,所述物料托架6上设有若干通气孔10。所述通气孔10为方形通气孔。

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