[实用新型]一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构

说明书

本实用新型公开了一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，属于瓷砖浇淋上釉技术领域，包括泵体、圆盘、输送线，所述泵体用于输送釉浆，所述圆盘上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘上还设置有一外形呈弧状的凸台，所述凸台位于所述泵体输出端的下方，所述输送线用于传输瓷砖，所述输送线位于所述圆盘的下方，这样本技术方案通过泵体输送釉浆到凸台上，釉浆通过凸台流至圆盘的外表面，进而流至位于圆盘下方的输送线上的瓷砖上，由于本技术方案的圆盘上设置有一向上拱起的弧面，从而可以实现瓷砖均匀浇淋上釉，不仅结构简单、性能好、效率高，而且无形中也降低了厂家的生产成本，从而增强了生产厂家的市场竞争力。

技术领域

本实用新型属于瓷砖浇淋上釉技术领域，尤其涉及一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构。

背景技术

目前，现有技术的瓷砖浇淋上釉产线机构在瓷砖浇淋上釉时，会出现浇淋上釉不均匀的情况发生，或者现有技术通过人工进行瓷砖浇淋上釉，但是需要耗费大量的人力，无形中增加了厂家的生产成本，从而降低了生产厂家的市场竞争力。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种结构简单、性能好、效率高的瓷砖均匀浇淋上釉产线机构。

本实用新型为解决其技术问题而采用的技术方案是：

一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，包括：

泵体，所述泵体用于输送釉浆；

圆盘，所述圆盘上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘上还设置有一外形呈弧状的凸台，所述凸台位于所述泵体输出端的下方；

输送线，所述输送线用于传输瓷砖，所述输送线位于所述圆盘的下方。

作为上述技术方案的改进，所述圆盘上还设置有一条软性挡块，所述软性挡块能够与所述凸台的外侧壁相抵接，且所述软性挡块的两端分别对应延伸至所述输送线的两侧。

优选地，所述凸台上设置有带缺口的圆形挡块，所述圆形挡块在对应缺口的一侧外周还设置有一半圆形挡块，所述半圆形挡块内壁与圆形挡块外壁之间形成用于有用于承接泵体输出的釉浆的第一釉浆流道。

优选地，所述输送线的下端还设置有第一回收池，所述软性挡块的两端分别延伸至所述第一回收池内。

优选地，所述第一回收池的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第一釉浆管道，所述第一釉浆管道远离所述第一回收池的一端连接有第二回收池。

优选地，所述第二回收池的侧壁还设置有第二釉浆流道，所述第二釉浆流道的输出端连接有第三回收池，所述第三回收池的开口端还设置有一用于过滤釉浆的晒网。

在本实用新型中，所述第三回收池的侧壁还连接有第四回收池，所述第四回收池的内腔与所述第三回收池的内腔相连通，且所述第四回收池上还设置有一用于搅拌其内腔釉浆的搅拌装置，所述第四回收池的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第二釉浆管道，所述第二釉浆管道远离第四回收池的一端与泵体相连通。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，包括泵体、圆盘、输送线，所述泵体用于输送釉浆，所述圆盘上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘上还设置有一外形呈弧状的凸台，所述凸台位于所述泵体输出端的下方，所述输送线用于传输瓷砖，所述输送线位于所述圆盘的下方，这样本技术方案通过泵体输送釉浆到凸台上，釉浆通过凸台流至圆盘的外表面，进而流至位于圆盘下方的输送线上的瓷砖上，由于本技术方案的圆盘上设置有一向上拱起的弧面，从而可以实现瓷砖均匀浇淋上釉，不仅结构简单、性能好、效率高，而且无形中也降低了厂家的生产成本，从而增强了生产厂家的市场竞争力。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型的结构示意图。