[实用新型]一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构有效

专利信息
申请号: 201721579865.3 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN207594050U 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 赵国涛 申请(专利权)人: 恩平市一箭陶瓷有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 梁嘉琦
地址: 529447 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 瓷砖 输送线 泵体 浇淋 上釉 凸台 釉浆 向上拱起 产线 弧面 本实用新型 市场竞争力 呈弧状 生产成本 传输 输出 生产
【权利要求书】:

1.一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于,包括:

泵体(10),所述泵体(10)用于输送釉浆;

圆盘(20),所述圆盘(20)上设置有一向上拱起的弧面,所述圆盘(20)上还设置有一外形呈弧状的凸台(21),所述凸台(21)位于所述泵体(10)输出端的下方;

输送线(30),所述输送线(30)用于传输瓷砖(31),所述输送线(30)位于所述圆盘(20)的下方。

2.根据权利要求1所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述圆盘(20)上还设置有一条软性挡块(40),所述软性挡块(40)能够与所述凸台(21)的外侧壁相抵接,且所述软性挡块(40)的两端分别对应延伸至所述输送线(30)的两侧。

3.根据权利要求2所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述凸台(21)上设置有带缺口的圆形挡块(21A),所述圆形挡块(21A)在对应缺口的一侧外周还设置有一半圆形挡块(21B),所述半圆形挡块(21B)内壁与圆形挡块(21A)外壁之间形成用于有用于承接泵体(10)输出的釉浆的第一釉浆流道(22)。

4.根据权利要求3所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述输送线(30)的下端还设置有第一回收池(50),所述软性挡块(40)的两端分别延伸至所述第一回收池(50)内。

5.根据权利要求4所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第一回收池(50)的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第一釉浆管道(60),所述第一釉浆管道(60)远离所述第一回收池(50)的一端连接有第二回收池(70)。

6.根据权利要求5所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第二回收池(70)的侧壁还设置有第二釉浆流道(71),所述第二釉浆流道(71)的输出端连接有第三回收池(80),所述第三回收池(80)的开口端还设置有一用于过滤釉浆的晒网(81)。

7.根据权利要求6所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第三回收池(80)的侧壁还连接有第四回收池(90),所述第四回收池(90)的内腔与所述第三回收池(80)的内腔相连通,且所述第四回收池(90)上还设置有一用于搅拌其内腔釉浆的搅拌装置,所述第四回收池(90)的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第二釉浆管道(91),所述第二釉浆管道(91)远离第四回收池(90)的一端与泵体(10)相连通。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩平市一箭陶瓷有限公司,未经恩平市一箭陶瓷有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721579865.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top