[实用新型]一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构有效
申请号: | 201721579865.3 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN207594050U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 赵国涛 | 申请(专利权)人: | 恩平市一箭陶瓷有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
地址: | 529447 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 瓷砖 输送线 泵体 浇淋 上釉 凸台 釉浆 向上拱起 产线 弧面 本实用新型 市场竞争力 呈弧状 生产成本 传输 输出 生产 | ||
1.一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于,包括:
泵体(10),所述泵体(10)用于输送釉浆;
圆盘(20),所述圆盘(20)上设置有一向上拱起的弧面,所述圆盘(20)上还设置有一外形呈弧状的凸台(21),所述凸台(21)位于所述泵体(10)输出端的下方;
输送线(30),所述输送线(30)用于传输瓷砖(31),所述输送线(30)位于所述圆盘(20)的下方。
2.根据权利要求1所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述圆盘(20)上还设置有一条软性挡块(40),所述软性挡块(40)能够与所述凸台(21)的外侧壁相抵接,且所述软性挡块(40)的两端分别对应延伸至所述输送线(30)的两侧。
3.根据权利要求2所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述凸台(21)上设置有带缺口的圆形挡块(21A),所述圆形挡块(21A)在对应缺口的一侧外周还设置有一半圆形挡块(21B),所述半圆形挡块(21B)内壁与圆形挡块(21A)外壁之间形成用于有用于承接泵体(10)输出的釉浆的第一釉浆流道(22)。
4.根据权利要求3所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述输送线(30)的下端还设置有第一回收池(50),所述软性挡块(40)的两端分别延伸至所述第一回收池(50)内。
5.根据权利要求4所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第一回收池(50)的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第一釉浆管道(60),所述第一釉浆管道(60)远离所述第一回收池(50)的一端连接有第二回收池(70)。
6.根据权利要求5所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第二回收池(70)的侧壁还设置有第二釉浆流道(71),所述第二釉浆流道(71)的输出端连接有第三回收池(80),所述第三回收池(80)的开口端还设置有一用于过滤釉浆的晒网(81)。
7.根据权利要求6所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构,其特征在于:所述第三回收池(80)的侧壁还连接有第四回收池(90),所述第四回收池(90)的内腔与所述第三回收池(80)的内腔相连通,且所述第四回收池(90)上还设置有一用于搅拌其内腔釉浆的搅拌装置,所述第四回收池(90)的侧壁上连接有一与其内腔相连通的第二釉浆管道(91),所述第二釉浆管道(91)远离第四回收池(90)的一端与泵体(10)相连通。
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