[实用新型]溅射镀膜系统

说明书

本实用新型提供了一种溅射镀膜系统，涉及镀膜设备技术领域，包括溅射镀膜机，溅射镀膜机设置有氢气入口，氢气入口连通有氢气发生器，缓解了在制备氢化硅薄膜的过程中，采用高压氢气钢瓶或氢气与其它气体混合的钢瓶与溅射镀膜机相连接，高压氢气钢瓶存在严重的安全隐患，而氢气与其它气体混合的钢瓶内的氢气纯度低，会导致氢化硅薄膜的折射率低，稳定性差的技术问题，达到了通过采用氢气发生器与氢气入口相连通，直接通过氢气发生器制取高纯氢气供溅射镀膜使用，消除了安全隐患，同时避免了杂质气体的引入，保证了氢气的高纯度，为氢化硅薄膜的折射率和稳定性提供了保障。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种溅射镀膜系统。

背景技术

目前，随着科学技术的发展，氢化硅薄膜以其优良的热稳定性和化学稳定性、较大的热传导率、高电子迁移率、高电子饱和漂移速度、高击穿场强和低介电常数等优点，在航空、航天、石油勘探、核能和通信领域具有广泛的应用前景。现有的氢化硅薄膜大都通过溅射镀膜法制备而成。现有的氢化硅薄膜在制备过程中，常常采用高压氢气钢瓶或氢气与其它气体混合的钢瓶与溅射镀膜机相连接，以完成氢化硅薄膜的镀制，但是高压氢气钢瓶存在严重的安全隐患，而氢气与其它气体混合的钢瓶内的氢气纯度低，会导致氢化硅薄膜的折射率低，稳定性差。

有鉴于此，特提出本实用新型。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种溅射镀膜系统，以缓解现有的氢化硅薄膜在制备过程中，常常采用高压氢气钢瓶或氢气与其它气体混合的钢瓶与溅射镀膜机相连接，高压氢气钢瓶存在严重的安全隐患，而氢气与其它气体混合的钢瓶内的氢气纯度低，会导致氢化硅薄膜的折射率低，稳定性差的技术问题。

本实用新型提供的溅射镀膜系统，包括溅射镀膜机，所述溅射镀膜机设置有氢气入口，所述氢气入口连通有氢气发生器。

进一步的，所述氢气发生器包括依次连通的电解槽和气水分离器，所述气水分离器的顶部设置有气体出口，所述气体出口与所述氢气入口相连通。

进一步的，所述氢气发生器还包括依次连通的第一干燥器和第二干燥器，所述第一干燥器和所述第二干燥器均设置于所述气体出口与所述氢气入口之间，所述第一干燥器与所述气体出口相连通，所述第二干燥器与所述氢气入口相连通。

进一步的，所述氢气发生器还包括水箱，所述水箱与所述电解槽相连通，所述气水分离器的底部还设置有出水口，所述出水口与所述水箱相连通。

进一步的，所述水箱的侧壁设置有水位计，用于测量所述水箱中的水量。

进一步的，所述溅射镀膜系统还包括储水罐，所述储水罐与所述水箱相连通，所述储水罐用于给所述水箱补水。

进一步的，所述储水罐与所述水箱之间设置有补水泵。

进一步的，所述气体出口与所述氢气入口之间设置有气体流量控制阀。

进一步的，所述溅射镀膜机还设置有惰性气体入口，所述惰性气体入口连通有惰性气体储罐。

进一步的，所述溅射镀膜机还设置有硅靶。

本实用新型提供的溅射镀膜系统，通过采用氢气发生器与氢气入口相连通，直接通过氢气发生器制取高纯氢气气体供溅射镀膜使用，消除了安全隐患，同时避免了杂质气体的引入，保证了氢气的高纯度，为氢化硅薄膜的折射率和稳定性提供了保障。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1提供的溅射镀膜系统的结构示意图；