[实用新型]溅射镀膜系统

权利要求书

1.一种溅射镀膜系统，其特征在于，包括溅射镀膜机，所述溅射镀膜机设置有氢气入口，所述氢气入口连通有氢气发生器。

2.根据权利要求1所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述氢气发生器包括依次连通的电解槽和气水分离器，所述气水分离器的顶部设置有气体出口，所述气体出口与所述氢气入口相连通。

3.根据权利要求2所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述氢气发生器还包括依次连通的第一干燥器和第二干燥器，所述第一干燥器和所述第二干燥器均设置于所述气体出口与所述氢气入口之间，所述第一干燥器与所述气体出口相连通，所述第二干燥器与所述氢气入口相连通。

4.根据权利要求2所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述氢气发生器还包括水箱，所述水箱与所述电解槽相连通，所述气水分离器的底部还设置有出水口，所述出水口与所述水箱相连通。

5.根据权利要求4所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述水箱的侧壁设置有水位计，用于测量所述水箱中的水量。

6.根据权利要求4所述的溅射镀膜系统，其特征在于，还包括储水罐，所述储水罐与所述水箱相连通，所述储水罐用于给所述水箱补水。

7.根据权利要求6所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述储水罐与所述水箱之间设置有补水泵。

8.根据权利要求2-7任一项所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述气体出口与所述氢气入口之间设置有气体流量控制阀。

9.根据权利要求1-7任一项所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述溅射镀膜机还设置有惰性气体入口，所述惰性气体入口连通有惰性气体储罐。

10.根据权利要求1-7任一项所述的溅射镀膜系统，其特征在于，所述溅射镀膜机还设置有硅靶。