[实用新型]一种磁场可变电弧调整沉积装置

说明书

本实用新型公开了一种磁场可变电弧调整沉积装置，涉及真空物理气相沉积技术领域，该装置包括支撑杆、阴极靶材和组件。阴极靶材固定于所述支撑杆一端。组件组设于支撑杆上，且所述组件包括线圈和电流调节装置，所述电流调节装置用于调节线圈内部电流大小，使所述阴极靶材在表面收到的磁场保持不变。本实用新型的驱动件通过不断调整线圈电流的大小，保证了阴极靶材表面的磁场稳定不变，从而控制电弧位置强度，形状，最终使得靶材能够准确稳定的沉积在工件表面。

技术领域

本实用新型涉及真空物理气相沉积技术领域，具体涉及一种磁场可变电弧调整沉积装置。

背景技术

真空镀是一种在真空条件下，使用蒸发、溅射或离化等方式在产品表面沉积各种金属和非金属薄膜的工艺。这种工艺主要有真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，其中离子镀中包含目前工业上应用最广的真空电弧涂镀技术。真空电弧涂镀主要由镀膜机上的阴极电弧源进行的。其中，电弧源在工作时通过引弧针使靶材起弧，弧斑在靶面快速移动，其阴极表面的阴极斑点尺寸小、电流密度高，弧斑所在区域的材料温度能够迅速升高到沸点以上，产生强烈蒸发、喷溅和离化，沉积于基体。

然而阴极弧斑在工作时，容易激发并产生金属大颗粒一直都是阴极弧技术的瓶颈一大难点。现有技术根据电弧离子体良好的导电性，电中性，与磁场可作用性，使用磁场控制电弧的位置、形状以及运动。合理的设计并利用磁场可以很好的控制电弧运动，从而大幅度地减少液滴量、减少尺寸、提高膜层寿命。因此在真空电弧涂镀常常使用永磁体进行控制。

但是人们一般认为永磁体相对于靶材的距离是不会变化的，然而实际上随着靶材的不断消耗，阴极靶材部靶材表面与永磁体之间的距离逐渐变化。即永磁体对阴极靶材部上不同位置的靶材的磁场是逐渐改变的，最终造成了阴极靶材部表面磁场不断变化进而影响镀膜效果。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种磁场可变电弧调整沉积装置，其在阴极靶材部逐渐消耗，距离磁场发生部变化时，保持阴极靶材部表面的磁场不变。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种磁场可变电弧调整沉积装置，其特征在于，其包括：

一支撑杆；

一阴极靶材，其固定于所述支撑杆一端；

一组件，所述支撑杆组设于所述组件，所述组件包括线圈和电流调节装置电连接，所述电流调节装置用于调节线圈电流大小。

在上述技术方案的基础上，所述组件包括主体部分，所述线圈安装于所述主体部分上。

在上述技术方案的基础上，所述线圈嵌设于所述主体部分。

在上述技术方案的基础上，所述主体部分为环形且和线圈共同环绕固定于支撑杆上。

在上述技术方案的基础上，所述组件还包括固定装置，其将主体部分固定于支撑杆上

在上述技术方案的基础上，所述电流调节装置还包括一计算单元，用于计算电流量。

在上述技术方案的基础上，所述计算单元还和一距离测量仪连接，所述距离测量仪用于测量阴极靶材消耗量。

在上述技术方案的基础上，所述组件还包括一温度报警装置，用于检测线圈温度并在温度高于预设值时报警。

在上述技术方案的基础上，所述电流调节装置上设有读数表。

在上述技术方案的基础上，所述阴极靶材还包含靶材和含有凹槽的阴极靶座，所述阴极靶座固定于支撑杆上，靶材固定在阴极靶座上。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：