[实用新型]一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置

说明书

一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，涉及一种镀膜装置，所述装置主机位于机台上方，主机前面设有门，门上设有带挡板的观察窗和循环冷却水道；主机上端设有射频电源接入口和反应气体接入口，这两个接口共同接入导管，并通过匀气板与辉光发生板接触；辉光发生板连接升降机构，隔离密封采用波纹管；真空室采用方型结构，外部设有若干标准真空法兰接口，样品台位于真空室底部辉光发生板的正下方。该装置针对实验室设计的十分小巧，前开门同真空室一样大，便于清理、维护；辉光发生器上设有匀气机构，使通入的反应气体更均匀；真空室预留多个真空法兰接口，方便接驳其它仪器设备、外壳有水冷装置，有效保护设备运行安全。

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜装置，具体为一种等离子体化学气相沉积的镀膜装置。

背景技术

等离子体化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）技术是利用等离子体放电产生带电粒子、自由基、活性基团等物质在基片表面发生化学反应沉积薄膜的技术。但是，现有的PECVD镀镆装置成膜均匀性不够理想。而且没有适合实验室科研使用的小型PECVD装置。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，该装置针对实验室设计的十分小巧，前开门同真空室一样大，便于清理、维护；辉光发生器上设有匀气机构，使通入的反应气体更均匀；真空室预留多个真空法兰接口，方便接驳其它仪器设备、外壳有水冷装置，有效保护设备运行安全。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，所述装置主机位于机台上方，主机前面设有门，门上设有带挡板的观察窗和循环冷却水道；主机上端设有射频电源接入口和反应气体接入口，这两个接口共同接入导管，并通过匀气板与辉光发生板接触；辉光发生板连接升降机构，隔离密封采用波纹管；真空室采用方型结构，外部设有若干标准真空法兰接口，样品台位于真空室底部辉光发生板的正下方；样品台设有加热或磁性吸附两种形式。

所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，所述方型真空室前面设有门，门上带有冷却水道，还有带挡板的观察窗。

所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，其辉光发生板上方有三层带孔的匀气板。

所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，辉光发生板设有波纹管密封。

本发明的优点与效果是：

本实用新型针对于实验室条件研发制造，整机十分小巧。真空室结构合理，前开门同真空室一样大，便于清理、维护。辉光发生器上设有匀气机构，使通入的反应气体更均匀。真空室预留多个真空法兰接口，方便接驳其它仪器设备、外壳有水冷装置，有效保护设备运行安全。

附图说明

图1为本实用新型整机主视图；

图2为本实用新型主机1的半剖视图。

图中部件：1主机、2循环冷却水道、3带挡板的玻璃观察窗、4前开门、5机台、6罗茨泵、7机械泵、8射频电源接入口、9反应气体接入口、10升降机构、11波纹管、12导管、13方型真空室、14气体分布箱、15匀气板、16辉光发生板、17烘烤照明灯、18样品台、19隔离柱。

具体实施方式

下面结合附图所示实施例对本实用新型进行详细说明。