[实用新型]一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置有效
| 申请号： | 201721538193.1 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN207435543U | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李双江;董顺;曹崇友 | 申请（专利权）人： | 沈阳鹏程真空技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人： | 张志刚 |
| 地址： | 110000 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空室 辉光 镀膜装置 发生板 等离子体化学气相沉积 反应气体 接入口 主机 机台 循环冷却水道 挡板 标准真空 法兰接口 方型结构 隔离密封 射频电源 设备运行 升降机构 水冷装置 仪器设备 真空法兰 装置主机 发生器 波纹管 观察窗 前开门 样品台 匀气板 上端 导管 接驳 匀气 预留 外部 安全 维护 | ||
【权利要求书】：
1.一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，所述装置主机位于机台上方，主机前面设有门，门上设有带挡板的观察窗和循环冷却水道；主机上端设有射频电源接入口和反应气体接入口，这两个接口共同接入导管，并通过匀气板与辉光发生板接触；辉光发生板连接升降机构，隔离密封采用波纹管；真空室采用方型结构，外部设有若干标准真空法兰接口，样品台位于真空室底部辉光发生板的正下方。
2.根据权利要求1所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，所述方型真空室前面设有门，门上带有冷却水道，还有带挡板的观察窗。
3.根据权利要求1所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，辉光发生板上方有三层带孔的匀气板。
4.根据权利要求3所述的一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，辉光发生板设有波纹管密封。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
