[实用新型]一种高分子等离子表面真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括真空套主体和翻盖，所述翻盖设置于真空套主体顶端，所述翻盖一侧与真空套主体转动连接，所述真空套主体内腔包括真空间和设备间，所述设备间设置于真空间底端，所述真空间和设备间之间设置有隔板，所述隔板侧壁与真空套主体内壁固定连接，所述真空间顶端设置有上支板，所述上支板底部设置有红外传感器。本实用新型通过对坩埚内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中转动电机通过夹紧套带动基片转动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，并且使用安全，操作简单，镀膜效果好，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备领域，特别涉及一种高分子等离子表面真空镀膜设备。

背景技术

现有的真空镀膜方式有两种：一是蒸发镀膜，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜；二是溅射类镀膜，溅射类镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

在上述两种方法中，在镀膜的过程中都是将基片固定，这样造成基片表面四周镀膜不均匀，影响了镀膜层的效果，并且操作人员无法实时得知物体镀膜进度，使得操作人员无法对镀膜过程进行有效掌控。因此，发明一种高分子等离子表面真空镀膜设备来解决上述问题很有必要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高分子等离子表面真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括真空套主体和翻盖，所述翻盖设置于真空套主体顶端，所述翻盖一侧与真空套主体转动连接，所述真空套主体内腔包括真空间和设备间，所述设备间设置于真空间底端，所述真空间和设备间之间设置有隔板，所述隔板侧壁与真空套主体内壁固定连接，所述真空间顶端设置有上支板，所述上支板底部设置有红外传感器，所述红外传感器底端设置有基片，所述基片两端设置有夹紧套，所述基片两端延伸至夹紧套内，所述夹紧套一侧设置有紧锁螺母，所述紧锁螺母一端贯穿夹紧套一侧壁，且延伸至基片一侧，所述夹紧套一端设置有轴承，所述轴承一侧设置有承重柱，所述轴承一端延伸至承重柱内，所述承重柱内设置有凹槽，所述凹槽内设置有从动轴和主动轴，所述从动轴与主动轴啮合连接，所述从动轴一端与轴承固定连接，所述主动轴输入端设置有转动电机，所述转动电机设置于承重柱内，所述隔板顶端设置有坩埚，所述坩埚设置于基片底端，所述坩埚两侧设置有加热丝，所述加热丝一端设置有支撑柱，所述支撑柱底端固定于隔板顶部。

优选的，所述翻盖内壁底端设置有散热板，所述设备间内腔设置有加热器和冷凝器。

优选的，所述真空套主体一侧底部设置有抽风机，所述抽风机顶端设置有抽风管，所述抽风管一端贯穿真空套主体一侧壁，且延伸至真空间内，所述抽风机顶端设置有压力表，所述压力表设置于真空套主体一侧，所述压力表输入端贯穿真空套主体一侧壁，且延伸至真空间内。

优选的，所述真空间内壁一侧设置有压力传感器和温度传感器，所述真空套主体外壁一侧设置有控制器，所述控制器表面设置有设备开关和显示屏。

优选的，所述坩埚顶端放置有靶材，所述真空套主体与翻盖一侧通过机械锁连接，所述真空套主体与翻盖连接处设置有密封圈。

优选的，所述冷凝器输出端与散热板输入端连接，所述散热板输出端与抽风机输入端连接，所述加热丝输入端与加热器输出端连接。

优选的，所述红外传感器、转动电机、加热器、冷凝器、抽风机、压力传感器和温度传感器均通过控制器与外接电源电性连接。

优选的，所述红外传感器型号设置为SE470，所述压力传感器型号设置为MPX12，所述温度传感器型号设置为DS18B20 TO-92。