[实用新型]一种高分子等离子表面真空镀膜设备

权利要求书

1.一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括真空套主体（1）和翻盖（2），所述翻盖（2）设置于真空套主体（1）顶端，所述翻盖（2）一侧与真空套主体（1）转动连接，其特征在于：所述真空套主体（1）内腔包括真空间（3）和设备间（4），所述设备间（4）设置于真空间（3）底端，所述真空间（3）和设备间（4）之间设置有隔板（5），所述隔板（5）侧壁与真空套主体（1）内壁固定连接，所述真空间（3）顶端设置有上支板（6），所述上支板（6）底部设置有红外传感器（7），所述红外传感器（7）底端设置有基片（8），所述基片（8）两端设置有夹紧套（9），所述基片（8）两端延伸至夹紧套（9）内，所述夹紧套（9）一侧设置有紧锁螺母（10），所述紧锁螺母（10）一端贯穿夹紧套（9）一侧壁，且延伸至基片（8）一侧，所述夹紧套（9）一端设置有轴承（11），所述轴承（11）一侧设置有承重柱（12），所述轴承（11）一端延伸至承重柱（12）内，所述承重柱（12）内设置有凹槽，所述凹槽内设置有从动轴（13）和主动轴（14），所述从动轴（13）与主动轴（14）啮合连接，所述从动轴（13）一端与轴承（11）固定连接，所述主动轴（14）输入端设置有转动电机（15），所述转动电机（15）设置于承重柱（12）内，所述隔板（5）顶端设置有坩埚（16），所述坩埚（16）设置于基片（8）底端，所述坩埚（16）两侧设置有加热丝（17），所述加热丝（17）一端设置有支撑柱（18），所述支撑柱（18）底端固定于隔板（5）顶部。

2.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述翻盖（2）内壁底端设置有散热板（19），所述设备间（4）内腔设置有加热器（20）和冷凝器（21）。

3.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述真空套主体（1）一侧底部设置有抽风机（22），所述抽风机（22）顶端设置有抽风管（23），所述抽风管（23）一端贯穿真空套主体（1）一侧壁，且延伸至真空间（3）内，所述抽风机（22）顶端设置有压力表（24），所述压力表（24）设置于真空套主体（1）一侧，所述压力表（24）输入端贯穿真空套主体（1）一侧壁，且延伸至真空间（3）内。

4.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述真空间（3）内壁一侧设置有压力传感器和温度传感器，所述真空套主体（1）外壁一侧设置有控制器（25），所述控制器（25）表面设置有设备开关和显示屏。

5.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述坩埚（16）顶端放置有靶材，所述真空套主体（1）与翻盖（2）一侧通过机械锁连接，所述真空套主体（1）与翻盖（2）连接处设置有密封圈。

6.根据权利要求2所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述冷凝器（21）输出端与散热板（19）输入端连接，所述散热板（19）输出端与抽风机（22）输入端连接，所述加热丝（17）输入端与加热器（20）输出端连接。

7.根据权利要求1或2或3或4所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述红外传感器（7）、转动电机（15）、加热器（20）、冷凝器（21）、抽风机（22）、压力传感器和温度传感器均通过控制器（25）与外接电源电性连接。

8.根据权利要求4所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，其特征在于：所述红外传感器（7）型号设置为SE470，所述压力传感器型号设置为MPX12，所述温度传感器型号设置为DS18B20 TO-92。