[实用新型]一种高频高线性摆镜检测系统有效

专利信息
申请号: 201721496074.4 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN207515998U 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 吴李宗;张德祥;王锦华;陈轩 申请(专利权)人: 扬州莱达光电技术有限公司
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 黄冠华
地址: 225000 江苏省扬*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 扫描器 测量光路 动态轨迹 检测系统 高线性 摆镜 半导体激光光源 二维调节机构 本实用新型 虚拟示波器 测试设备 光学平台 平行光管 四通道 激光 自准直平行光管 过零检测电路 操作显示 二维微调 光纤输出 激光光源 接收系统 控制系统 整机结构 自准直 工作台 光管 两路 紧凑 检测
【说明书】:

实用新型公开了一种高频高线性摆镜检测系统,包括光学平台、测试设备和控制系统,测试设备包括设置在光学平台上方的扫描器动态轨迹测量光路、扫描器过零检测电路、半导体激光光源、四通道虚拟示波器和操作显示台,所述扫描器动态轨迹测量光路包括带二维调节机构激光平行光管和轨迹接收系统,所述扫描器动态轨迹测量光路包括自准直行光管和二维微调工作台,所述半导体激光光源经光纤输出作为带二维调节机构激光平行光管和自准直平行光管的激光光源,所述四通道虚拟示波器用于连接两路PSD的Vx、Vy信号。本实用新型所提供的高线性摆镜检测系统,整机结构紧凑,且操作方便,安全性好,可以适应于外界各种干扰,检测精确性高。

技术领域

本实用新型涉及光学检测设备技术领域,特别涉及一种高频高线性摆镜检测系统。

背景技术

高频高精度摆镜是线列扫描成像系统的关键组成部分,摆镜摆动的线性度影响成像质量,重复性则影响成像稳定性。而摆镜的性能主要通过其摆角特性来衡量,因此,可以通过测量摆镜的实际摆角,并对所测试数据进行后续处理,实现摆镜性能的测试评价。现有的技术中的摆镜系统,不能够适应于外界各种干扰,会影响摆镜检测系统的检测精确度。

实用新型内容

为克服现有技术中存在的摆镜系统,不能够适应于外界各种干扰,会影响摆镜检测系统的检测精确度的问题,本实用新型提供了一种高频高线性摆镜检测系统。

具体技术方案如下:

一种高频高线性摆镜检测系统,包括光学平台、测试设备和控制系统,所述测试设备包括设置在光学平台上方的扫描器动态轨迹测量光路、扫描器过零检测电路、半导体激光光源、四通道虚拟示波器和操作显示台,所述光学平台上方设置有保护罩,所述扫描器动态轨迹测量光路包括带二维调节机构激光平行光管和轨迹接收系统,所述扫描器动态轨迹测量光路包括自准直行光管和二维微调工作台,所述半导体激光光源经光纤输出作为带二维调节机构激光平行光管和自准直平行光管的激光光源,所述四通道虚拟示波器用于连接两路PSD的Vx、 Vy信号。

优选的,所述带二维调节机构激光平行光管包括光纤、平行光管和二维调节机构,所述二维调节机构包括俯仰微调结构和方位微调结构,所述光纤与平行光管相连,所述二维调节机构设置在平行光管的下部。

优选的,所述带二维调节机构激光平行光管的焦距为200mm,有效孔径为φ40mm,光纤直径为0.01mm,数值孔径为0.33,方位微调的分辨率为0.18″,俯仰微调的分辨率为1.3″。

优选的,所述自准直平行光管中自准物镜的焦距为500mm,有效光学口径为Ф50mm, PSD的有效面积为21*21mm,分辨率为1μm,响应时间为1μs。

优选的,所述半导体激光光源为波长为650nm的半导体激光。

本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果:

(1)整体性

从测试台结构布局可以看出,测试台是一个整体仪器,以光学平台为结构主体,所有的光学部件均在铝合金保护罩内,形成一个整体,一方面保护光学元件免受灰尘污染,另一方面,防止部件丢失,误调。

(2)智能化

测试台采用计算机集中控制,具有诸多智能化的功能,如:故障诊断、参数设定、零位自动调整、参数自动计算、数据分析等智能化功能。

(3)先进性

测试台采用半导体激光技术、光纤技术、调制解调技术、自动化技术于一体,实现了光、机、电、计算机的有机结合,使测试台具有一定的技术含量,提高了测试系统抗外界光干扰的能力,体现出先进性。

(4)集成度高

测试设备选用了诸多标准电子仪器、光学仪器集成而成,一方面降低了成本,另一方面提高了可靠性。

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