[实用新型]硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置有效
申请号: | 201721409578.8 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN207664024U | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 陈五奎;刘强;耿荣军;任超 | 申请(专利权)人: | 乐山新天源太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 李玉兴 |
地址: | 614000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 输送装置 硅片 自动清洗 脱胶 一体机 水平输送装置 翻面输送装置 脱胶装置 清洗 本实用新型 工作效率 翻面 滑道 | ||
1.硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置,所述硅片自动清洗脱胶一体机包括输送装置和清洗脱胶装置(1);所述清洗脱胶装置(1)设置在输送装置的上方;其特征在于:所述输送装置包括两个水平输送装置以及翻面输送装置(2);
所述翻面输送装置(2)包括两条平行的滑道(7);所述滑道(7)上设置有支撑座(3);两条所述滑道之间设置有硅片输送装置(22);两条所述滑道(7)的中间位置均设置有硅片旋转夹盘(21);所述硅片旋转夹盘(21)位于两条所述滑道(7)之间;两个所述硅片旋转夹盘(21)之间具有安装硅片输送装置(22)的间距;两个所述硅片旋转夹盘(21)的转轴共线;
所述硅片旋转夹盘(21)包括转盘(211),所述转盘(211)上设置有沿圆周均匀分布的夹片组;所述夹片组具有偶数组;所述夹片组包括两片夹片(212),所述两片夹片(212)之间具有与硅片匹配的夹槽(213);
所述滑道(7)上设置有驱动两个所述硅片旋转夹盘(21)中任意一个或者两个转动的第二驱动电机(23);
所述滑道(7)上安装有硅片移动到夹槽(213)时控制硅片输送装置(22)制动,且控制第二驱动电机(23)启动的限位开关(24);
所述翻面输送装置(2)位于两个水平输送装置之间;所述两条所述滑道(7)位于水平输送装置的两侧。
2.如权利要求1所述的硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置,其特征在于:所述水平输送装置包括至少两根皮带(6);所述皮带(6)两端均设置有传动轴(4);所述传动轴(4)上设置有至少两个皮带轮(5),所述皮带轮(5)与皮带(6)一一对应;所述皮带(6)与皮带轮(5)传动连接;所述传动轴(4)两端设置有支撑座(3);两根传动轴(4)中任意一根的支撑座(3)上设置有驱动传动轴(4)转动的第一驱动电机。
3.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置,其特征在于:所述硅片输送装置(22)包括橡胶皮带(222),所述橡胶皮带(222)两端均设置有第二支撑座(221),所述橡胶皮带(222)与第二支撑座(221)传动连接,且第二支撑座(221)上设置有驱动橡胶皮带(222)转动的驱动装置;所述橡胶皮带(222)与滑道(7)平行,且平齐。
4.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置,其特征在于:所述滑道(7)上安装有硅片旋转夹盘(21)的位置设置有挡板(25),所述挡板(25)位于硅片旋转夹盘(21)的外侧。
5.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机的输送装置,其特征在于:所述滑道(7) 上设置有沿滑道(7)长度方向延伸的硅片导向槽。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造