[实用新型]ITO靶材烧结炉

说明书

本实用新型公开了一种ITO靶材烧结炉，包括炉架，炉架的上支架上架设有炉体，炉体内设置有保温层；炉架的下支架上设置有定位导轨，定位导轨之间的炉架内设置有用于放置待烧结ITO靶材坯体的升降架；所述炉体上还设置有气氛控制系统、加热控制系统以及主控制器；所述炉体和保温层之间还设置有水冷夹套，炉体上设置有控制水冷夹套进行冷却作业的水冷控制系统，所述水冷控制系统的受控端连接主控制器的输出端。本实用新型能够使炉膛内的温度快速地上升或下降，进而实现快速并精确地调节升降温速率的目的，使ITO靶材在烧结过程中的晶粒、孔隙、致密度均达到最佳状态，大大提高了ITO靶材的烧结质量。

技术领域

本实用新型涉及ITO靶材生产技术领域，特别是一种ITO靶材烧结炉。

背景技术

随着科技的迅速发展，电子行业在市场中占据巨大的份额，电子行业市场中很多电子产品都用到了平面显示器，例如平面显示器、液晶电脑、液晶电视等等。ITO靶材是三氧化二铟和二氧化锡的混合物，是ITO薄膜制备的重要原料，ITO靶材因其具有较高的耐热冲击性能、导热率和机械强度，并且电阻率较低，还能够提高电子产品的使用寿命，因此作为主要材料应用于平面液晶显示器的制造，在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。ITO靶材坯体制备成型后需要经过烧结才能作为基础材料生产电子产品。

中国专利CN104296529B公开了一种可用于ITO靶材烧结的气氛钟罩炉，用于烧结ITO靶材坯体；包括炉体、炉架、冷却系统、气氛控制调节系统和温度控制系统，冷却系统包括离心风机、空气过滤器和冷却风管路。该气氛钟罩炉由于采用的是气体冷却方式，存在以下缺陷：1）冷却气体直接进入炉膛进行冷却，由于冷却气体中含有氧气，因此炉膛内的气氛无法进行准确调节，对ITO靶材的烧结质量产生一定的影响；2）冷却气体直接进入炉膛后会与提供氧气的气氛控制调节系统输出的气体产生紊流，影响ITO靶材的烧结质量；3）降温速度较慢，延长了烧结周期，不仅造成了人力、物力、财力的浪费，更重要的是影响了ITO靶材的烧结质量。

实用新型内容

本实用新型需要解决的技术问题是提供了一种用于ITO靶材烧结的烧结炉，能够精确、快速调节烧结炉的温度，为提高ITO靶材的烧结质量提供可靠保证。

为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案如下。

ITO靶材烧结炉，包括由下支架和上支架构成的炉架，炉架的上支架上架设有炉体，炉体内设置有保温层；炉架的下支架上设置有定位导轨，定位导轨之间的炉架内设置有在定位导轨上上下移动、用于放置待烧结ITO靶材坯体的升降架；所述炉体上还设置有向炉膛内通入氧气的气氛控制系统、用于控制炉膛内加热温度的加热控制系统以及用于控制气氛控制系统和加热控制系统协调作业的主控制器；所述炉体和保温层之间还设置有水冷夹套，炉体上设置有控制水冷夹套进行冷却作业的水冷控制系统，所述水冷控制系统的受控端连接主控制器的输出端。

上述ITO靶材烧结炉，所述水冷控制系统包括冷却水源、连通冷却水源与水冷夹套底部的进水管、设置在水冷夹套上部的出水管以及设置在进水管上的水冷控制器，所述水冷控制器的受控端连接主控制器的输出端。

上述ITO靶材烧结炉，所述加热控制系统包括电源、炉膛温度控制器、移相调功器、隔离降压变压器、加热硅钼棒以及设置在炉体顶部的热电偶，所述电源的输出端依次连接移相调功器、隔离降压变压器和加热硅钼棒，移相调功器的受控端连接炉膛温度控制器的输出端；所述主控制器的输入端连接热电偶的输出端，主控制器的输出端连接炉膛温度控制器的受控端。

上述ITO靶材烧结炉，所述加热硅钼棒设置有多根，多根加热硅钼棒在炉膛内环形设置在待烧结ITO靶材的周侧。