[实用新型]一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及电子束曝光机，尤其涉及一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统。

背景技术

电子束曝光机是一种重要的高分辨率纳米加工设备。其常被用于制备各种纳米器件。因而对其工艺的摸索是非常有必要的，现在很多科学研究已不满足于用单一材料或单一层数来制备纳米器件，常常需要根据科研设计，制备多种材料或多层工艺以满足纳米器件制备的高要求。这就需要用到套刻工艺，然而说到套刻，我们都知道，套刻就意味着第二次放样与第一次放样角度位置不能偏差太大，否则在现有硬件及软件的条件下，是无法实现套刻的。而就目前的样品台而言，做一次套刻相当不容易，将样品放入电子束曝光机准备曝第二层时，如果发现第二次放样角度偏差与第一次较大，则需要将电镜放气，样品台取出，根据经验大概调整样品位置，再放置到扫描电镜中，重新抽真空，重新聚焦，如此反复才能找到合适的位置进行下一步的曝光工作，为曝光带来了极大的不便，且需耗费大量的时间和精力在寻找第一次位置上，无形中增加了很多工作量。

实用新型内容

本实用新型就是针对上述问题，提出一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，所述套刻位置定位系统的设计可以使电子束曝光套刻变得极为简单、方便、快捷，可以极大的提高纳米器件制备的效率。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。

优选地，所述套刻定位槽为两个，且两个套刻定位槽平行设置，所述两个套刻定位槽之间的距离为1-3mm。

优选地，所述套刻区域为三个，所述套刻区域还包括均匀分布的螺丝孔，所述螺丝孔用于固定压紧套刻样品的压片。

优选地，所述样品台主体还包括校正区域，所述校正区域包括棋盘格样品和校正定位装置。

优选地，所述校正定位装置包括若干直线型凹槽，直线型凹槽的右端均相互连通设置，且所述凹槽成顺时针方向排列设置，其中一个凹槽为水平设置。

本实用新型有益效果是：(一)方便了样品的摆放，有样品位置套刻定位槽的存在，使得二次放样位置不会太偏，这样才能在软件及硬件的配合下，校正二次放样位置的偏差，才能进行套刻工艺。

(二)提高了套刻的效率，避免了电镜反复放气和抽真空等工作。由于两次放样若角度偏差较大时，需要将样品取出，根据经验调整样品，重新放置样品，再放置到扫描电镜中，重新抽真空，重新找到样品，重新聚焦，重新观察角度偏差是否合适。如果不合适只能重复以上的步骤重新来一遍。而我们的设计避免了这些繁琐的工作，提高了套刻的效率。

(三)适应样品的尺寸范围也较大，样品较小时样品一边对齐顶端的套刻定位槽，样品较大时对齐底端的套刻定位槽即可。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统一种实施例的结构示意图；

图2是图1的侧视图；

图3是套刻定位装置一种实施例的结构示意图；

图4是校正定位装置一种实施例的结构示意图；

图5是校正棋盘格样品一种实施例的结构示意图；

图中：1样品台主体，2螺丝孔，3金颗粒样品，4圆槽，5套刻样品，6棋盘格样品，7角度定位槽，71第一凹槽，72第二凹槽，73第三凹槽，74第四凹槽，75第五凹槽，8套刻定位槽。

具体实施方式

结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明。

一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。

实施例：