[实用新型]一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统

权利要求书

1.一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，其特征在于，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。

2.根据权利要求1所述的具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，其特征在于，所述套刻定位槽为两个，且两个套刻定位槽平行设置，所述两个套刻定位槽之间的距离为1-3mm。

3.根据权利要求1或2所述的具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，其特征在于，所述套刻区域为三个，所述套刻区域还包括均匀分布的螺丝孔，所述螺丝孔用于固定压紧套刻样品的压片。

4.根据权利要求1或2所述的具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，其特征在于，所述样品台主体还包括校正区域，所述校正区域包括棋盘格样品和校正定位装置。

5.根据权利要求4所述的具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，其特征在于，所述校正定位装置包括若干直线型凹槽，直线型凹槽的右端均相互连通设置，且所述凹槽成顺时针方向排列设置，其中一个凹槽为水平设置。