[实用新型]一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构

说明书

技术领域

本实用新型属于一种抛光机抛光盘技术领域，具体涉及一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构。

背景技术

传统的双面研磨抛光设备，对于研磨抛光盘均采用被动式的冷却方式，通过研磨砂抛光液带走抛光过程中产生的热量。对于连续工作的设备来说不能起到良好的降温作用及精确的温度控制。而温度变化会引起抛盘的变形，对工件的平整度会造成严重影响。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足提供一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其可对盘体进行强制冷却，从而实现盘体的温度控制，对盘温的有效控制确保了抛盘在加工过程中的几何精度的保持，从而提高了晶片的加工精度。

为实现上述技术目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其中：包括连接螺纹孔、管卡、冷却腔、密封圈槽、出水口、进水管、进水接头、进水口、下盘水冷盘、第一密封圈、第二密封圈和下盘工作盘，所述的下盘水冷盘的顶面上设有若干个连接螺纹孔，所述的下盘水冷盘底面上设有若干个冷却腔，所述的下盘水冷盘上设有进水口且进水口与冷却腔连通，所述的下盘工作盘安装在下盘水冷盘的底面上，所述的进水接头安装在进水口上，所述的进水管通过管卡安装在下盘水冷盘的顶面上，所述的进水管末端安装在进水接头上，所述的下盘水冷盘上设有出水口且出水口与冷却腔连通，所述的下盘水冷盘底面与下盘工作盘顶面接触面之间设有两个密封圈槽且一个密封圈槽位于出水口所在圆周内侧，另一个所述的密封圈槽位于出水口所在圆周外侧，所述的第一密封圈安装在位于出水口所在圆周内侧的密封圈槽，所述的第二密封圈安装在位于出水口所在圆周外侧的密封圈槽。

为优化上述技术方案，采取的具体措施还包括：

上述的冷却腔沿下盘水冷盘圆周方向均匀分布有12个。

上述的下盘水冷盘中心和下盘工作盘中心都设有定位孔。

上述的第二密封圈位于进水口所在圆周外侧的密封圈槽内。

本实用新型上下大盘采用了复合结构，分为工作盘和水冷盘两层，两层盘体间设有腔体，中间通有循环冷却水，可对盘体进行强制冷却，从而实现盘体的温度控制。对盘温的有效控制确保了抛盘在加工过程中的几何精度的保持，能提高晶片的几何参数，机械摩擦产生热量，而热量恰好促进了化学腐蚀作用，机械化学抛光过程速率达到一个平衡的状态。

下抛光盘的冷却水盘将冷却腔体分为12个扇形区域，并设有12个冷却水进出口，当抛光盘温度持续上升，并达到设定值时，冷却水开关自动开启，同时向冷却水腔体通水，达到对下盘冷却降温的作用。多个冷却水的进出口有利于提高冷却的效率。冷却水通过进水口流经进水管，到达冷却腔，只有当冷却水充满冷却腔体时，冷却水才能通过出水口流出。操作界面可显示实时监测到的上下盘冷却水进出的温度。这种冷却方式结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。为了能达到良好的冷却效果，防止冷却水的渗漏，在复合盘的螺钉连接处，盘体内外圈处装有密封圈。

本实用新型的优点在于以下几点：可对盘体进行强制冷却，从而实现盘体的温度控制，对盘温的有效控制确保了抛盘在加工过程中的几何精度的保持，从而提高了晶片的加工精度。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的A-A结构剖视图。

其中的附图标记为：连接螺纹孔1、管卡2、冷却腔3、密封圈槽4、出水口5、进水管6、进水接头7、进水口8、下盘水冷盘9、第一密封圈10、第二密封圈11、下盘工作盘12。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作出进一步说明：