[实用新型]一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构

权利要求书

1.一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其特征在于：包括连接螺纹孔(1)、管卡(2)、冷却腔(3)、密封圈槽(4)、出水口(5)、进水管(6)、进水接头(7)、进水口(8)、下盘水冷盘(9)、第一密封圈(10)、第二密封圈(11)和下盘工作盘(12)，所述的下盘水冷盘(9)的顶面上设有若干个连接螺纹孔(1)，所述的下盘水冷盘(9)底面上设有若干个冷却腔(3)，所述的下盘水冷盘(9)上设有进水口(8)且进水口(8)与冷却腔(3)连通，所述的下盘工作盘(12)安装在下盘水冷盘(9)的底面上，所述的进水接头(7)安装在进水口(8)上，所述的进水管(6)通过管卡(2)安装在下盘水冷盘(9)的顶面上，所述的进水管(6)末端安装在进水接头(7)上，所述的下盘水冷盘(9)上设有出水口(5)且出水口(5)与冷却腔(3)连通，所述的下盘水冷盘(9)底面与下盘工作盘(12)顶面接触面之间设有两个密封圈槽(4)且一个密封圈槽(4)位于出水口(5)所在圆周内侧，另一个所述的密封圈槽(4)位于出水口(5)所在圆周外侧，所述的第一密封圈(10)安装在位于出水口(5)所在圆周内侧的密封圈槽(4)，所述的第二密封圈(11)安装在位于出水口(5)所在圆周外侧的密封圈槽(4)。

2.根据权利要求1所述的一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其特征在于：所述的冷却腔(3)沿下盘水冷盘(9)圆周方向均匀分布有12个。

3.根据权利要求1所述的一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其特征在于：所述的下盘水冷盘(9)中心和下盘工作盘(12)中心都设有定位孔。

4.根据权利要求1所述的一种晶片双面抛光机用的下抛光盘水冷结构，其特征在于：所述的第二密封圈(11)位于进水口(8)所在圆周外侧的密封圈槽(4)内。