[实用新型]一种研磨装置有效

专利信息
申请号: 201721298785.0 申请日: 2017-10-10
公开(公告)号: CN207563034U 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 赵媛;任丽;高永亮;解鑫;梁春梅;许璐;喻东威;常建军;宋晓东 申请(专利权)人: 内蒙古蒙牛乳业(集团)股份有限公司
主分类号: B02C19/00 分类号: B02C19/00
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 李敏
地址: 011500 内蒙古自*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 研磨 研磨单元 研磨装置 凸面 凹面 挤压 本实用新型 凹面接触 不易外溢 多次挤压 容置内腔 食品检测 样品粉末 均一性 外界力 凹陷 内嵌
【说明书】:

本实用新型属于食品检测技术领域,公开了一种研磨装置。该研磨装置通过设置第一研磨单元和第二研磨单元,当研磨样品时,利用第一研磨单元上的研磨凸面内嵌第二研磨单元上的研磨凹面凹陷形成的样品容置内腔中,利用外界力去挤压第一研磨单元,可将样品紧密挤压至研磨凸面与研磨凹面间,如此多次挤压,便可达到研磨样品的目的。同时,研磨样品时,研磨凸面与研磨凹面接触面积大,样品不易外溢,可达到充分研磨样品的目的,提高了样品粉末的均一性。

技术领域

本实用新型属于食品检测技术领域,具体涉及一种研磨装置。

背景技术

在检测块状食品中各成分含量时,首先需要研磨块状食品,以达到粉碎的目的。诸如圆片状的酪趣贝奶酪产品即为常见的块状食品,在检测其中含量时,一般会采用研磨装置将其研磨粉碎。现有技术中常用的研磨装置一般是研钵,诸如中国专利文献CN204816782U公开了一种研钵,该技术通过设置在研钵本体上设置楞条,并在钵杵把手的杵头上设置凸起,通过手动移动钵杵把手来达到研磨样品的目的。

但是上述技术中,杵头与研钵本体接触面积有限,当杵头研磨样品时,样品易受力外溢,难以达到充分研磨的效果,导致研磨后得到的样品粉末均一性较差,不能作为代表性样品,最终也难以准确反映样品特性。

实用新型内容

为此,本实用新型所要解决的是现有研磨装置难以达到充分研磨的效果,导致样品粉末均一性差的缺陷,进而提供一种研磨充分、结构简单的便携式研磨装置。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:

本发明所提供的研磨装置,包括研磨组件,所述研磨组件包括,

第一研磨单元,具有研磨凸面;

第二研磨单元,具有研磨凹面,所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔,当研磨样品时,所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中,并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。

进一步地,所述研磨凸面为球面,所述研磨凹面为球形凹面,当所述研磨凸面内嵌所述样品容置内腔内时,所述研磨凸面与所述研磨凹面彼此紧密贴合。

进一步地,所述研磨凸面和所述研磨凹面中任一个上间隔分布研磨凸起。

进一步地,所述研磨凸起为锥形凸起和/或球形凸起。

优选地,所述研磨凸起的凸起高度为0.5cm-0.8cm。

进一步地,还包括第一连接杆,具有第一旋转端和第一连接端,所述第一连接端与所述第一研磨单元连接;

第二连接杆,具有第二旋转端和第二连接端,所述第二连接端与所述第二研磨单元连接,且所述第一旋转端与所述第二旋转端活动连接,以使两者可相对旋转并带动所述第一研磨单元和所述第二研磨单元彼此靠近或远离。

进一步地,所述研磨凸面的直径至少为2cm,所述研磨凹面的直径至少为3cm。

进一步地,所述第一研磨单元为第一研磨圆盘,所述第一连接端与所述第一研磨圆盘连接,且远离所述研磨凸面;

所述第二研磨单元为第二研磨圆盘,

进一步地,还包括固定台,具有一适于放置于水平面上的水平固定面,与所述水平固定面相对的侧面与所述第二研磨单元固定连接,以通过所述固定台将所述第二研磨单元放置于水平面上。

与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:通过设置第一研磨单元和第二研磨单元,当研磨样品时,利用第一研磨单元上的研磨凸面内嵌第二研磨单元上的研磨凹面凹陷形成的样品容置内腔中,利用外界力去挤压第一研磨单元,可将样品紧密挤压至研磨凸面与研磨凹面间,如此多次挤压,便可达到研磨样品的目的。同时,研磨样品时,研磨凸面与研磨凹面接触面积大,样品不易外溢,可达到充分研磨样品的目的,提高了样品粉末的均一性。

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