[实用新型]一种研磨装置有效
| 申请号： | 201721298785.0 | 申请日： | 2017-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN207563034U | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 赵媛;任丽;高永亮;解鑫;梁春梅;许璐;喻东威;常建军;宋晓东 | 申请（专利权）人： | 内蒙古蒙牛乳业（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | B02C19/00 | 分类号： | B02C19/00 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李敏 |
| 地址： | 011500 内蒙古自*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 研磨单元 研磨装置 凸面 凹面 挤压 本实用新型 凹面接触 不易外溢 多次挤压 容置内腔 食品检测 样品粉末 均一性 外界力 凹陷 内嵌 | ||
1.一种研磨装置，包括研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括，
第一研磨单元，具有研磨凸面；
第二研磨单元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔，当研磨样品时，所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中，并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。
2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸面为球面，所述研磨凹面为球形凹面，当所述研磨凸面内嵌所述样品容置内腔内时，所述研磨凸面与所述研磨凹面彼此紧密贴合。
3.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸面和所述研磨凹面中任一个上间隔分布研磨凸起。
4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸起为锥形凸起和/或球形凸起。
5.根据权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸起的凸起高度为0.5cm-0.8cm。
6.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其特征在于，还包括，
第一连接杆，具有第一旋转端和第一连接端，所述第一连接端与所述第一研磨单元连接；
第二连接杆，具有第二旋转端和第二连接端，所述第二连接端与所述第二研磨单元连接，且所述第一旋转端与所述第二旋转端活动连接，以使两者可相对旋转并带动所述第一研磨单元和所述第二研磨单元彼此靠近或远离。
7.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸面的直径至少为2cm，所述研磨凹面的直径至少为3cm。
8.根据权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，所述第一研磨单元为第一研磨圆盘，所述第一连接端与所述第一研磨圆盘连接，且远离所述研磨凸面；
所述第二研磨单元为第二研磨圆盘。
9.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其特征在于，还包括，
固定台，具有一适于放置于水平面上的水平固定面，与所述水平固定面相对的侧面与所述第二研磨单元固定连接，以通过所述固定台将所述二研磨单元放置于水平面上。
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