[实用新型]一种曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体工艺技术领域，尤指一种曝光机。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示屏或触摸屏已经广泛应用于人们的生活中，其中，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在市场中占据重要地位。有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode，OLED)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，也已经被广泛应用于市场中。

在制造平板显示的黄光制程中，图案的尺寸受掩膜版(Mask)，光刻胶厚度，烘烤时间，温度，浓度以及显影时间等多种因素影响，因此，实际形成的图案的线宽与设计的线宽存在一定的偏差，例如，对于同一张基板，虽然掩膜版上不同位置的线宽一样，但实际得到的图案的线宽是不一样的。偏差太大会导致后续检测困难，以及出货品质的不稳定，甚至会导致产品报废。

在工艺中对线宽都有一个公差范围，随着高分辨率的发展，世面上2K，4K，8K屏幕越来越多，对线宽的要求越来越高，设计公差越来越小，很多时候达到这个公差很困难。

现有技术中，现最常用的方法是在掩膜版上进行补正，但当工艺参数及设备能力变化时，补正量也会变化，而且，烘烤时间，温度，浓度和显影时间等因素会随时间及环境等因素变化，可控性较低，也会导致补正量发生变化，这时就需要重新制作掩膜版，经济成本及时间成本都较高，并且灵活性太差。此外，掩膜版一旦制造完成，补偿值就确定了，如果其它因素的影响下，补偿量发生变化，需要重新制作掩膜版。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种曝光机，用以解决现有技术中存在的不能对曝光量进行合理补偿的问题。

本发明实施例提供了一种曝光机，包括：光源，掩膜版，以及位于所述光源和所述掩膜版之间的光强调节器；其中，

所述光强调节器，用于调节所述光源射向所述掩膜版上不同位置处的光线的光强。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，所述光强调节器，包括：第一透明基板，位于所述第一透明基板远离所述光源一侧的第二透明基板，位于所述第一透明基板和所述第二透明基板之间的液晶层，以及用于调节所述液晶层上不同位置处的光透过率的控制单元；

所述第一透明基板远离所述液晶层的一侧设有第一偏光层；

所述第二透明基板远离所述液晶层的一侧设有第二偏光层；

所述第一偏光层与所述第二偏光层的光轴相互垂直。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，所述控制单元，包括：位于所述第一透明基板与所述第一偏光层之间的第一透明电极层，位于所述第二透明基板与所述第二偏光层之间的第二透明电极层，以及信号源；其中，

所述第一透明电极层，包括：多个第一透明电极；各所述第一透明电极分别通过导线与所述信号源连接；

所述第二透明电极层，包括：多个与所述第一透明电极一一对应的第二透明电极；各所述第二透明电极分别通过导线与所述信号源连接。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，所述第一透明电极与对应的所述第二透明电极形状一致。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，各所述第一透明电极为并排设置的条状电极。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，各所述第一透明电极为呈阵列排布的块状电极。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，所述光强调节器，还包括：位于所述第二偏光层与所述掩膜版之间的第一准直元件。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，还包括：位于所述光源与所述光强调节器之间的第二准直元件。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，还包括：位于所述掩膜版远离所述光强调节器一侧的成像元件。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光机中，所述曝光机为投影式曝光机。

本实用新型有益效果如下：