[实用新型]一种曝光机有效
| 申请号： | 201721282428.5 | 申请日： | 2017-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN207181952U | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 张康;渠谦;卢兵;徐钟国;房晓梅 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 | ||
1.一种曝光机，其特征在于，包括：光源，掩膜版，以及位于所述光源和所述掩膜版之间的光强调节器；其中，
所述光强调节器，用于调节所述光源射向所述掩膜版上不同位置处的光线的光强。
2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光强调节器，包括：第一透明基板，位于所述第一透明基板远离所述光源一侧的第二透明基板，位于所述第一透明基板和所述第二透明基板之间的液晶层，以及用于调节所述液晶层上不同位置处的光透过率的控制单元；
所述第一透明基板远离所述液晶层的一侧设有第一偏光层；
所述第二透明基板远离所述液晶层的一侧设有第二偏光层；
所述第一偏光层与所述第二偏光层的光轴相互垂直。
3.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述控制单元，包括：位于所述第一透明基板与所述第一偏光层之间的第一透明电极层，位于所述第二透明基板与所述第二偏光层之间的第二透明电极层，以及信号源；其中，
所述第一透明电极层，包括：多个第一透明电极；各所述第一透明电极分别通过导线与所述信号源连接；
所述第二透明电极层，包括：多个与所述第一透明电极一一对应的第二透明电极；各所述第二透明电极分别通过导线与所述信号源连接。
4.如权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述第一透明电极与对应的所述第二透明电极形状一致。
5.如权利要求4所述的曝光机，其特征在于，各所述第一透明电极为并排设置的条状电极。
6.如权利要求4所述的曝光机，其特征在于，各所述第一透明电极为呈阵列排布的块状电极。
7.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述光强调节器，还包括：位于所述第二偏光层与所述掩膜版之间的第一准直元件。
8.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括：位于所述光源与所述光强调节器之间的第二准直元件。
9.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括：位于所述掩膜版远离所述光强调节器一侧的成像元件。
10.如权利要求1～9任一项所述的曝光机，其特征在于，所述曝光机为投影式曝光机。
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