[实用新型]一种光刻机用晶圆片匀胶装置

说明书

本实用新型公开了一种光刻机用晶圆片匀胶装置，包括工作台、固定连接在工作台上的电机，以及水平设于电机主轴上的真空吸盘，还包括一个L形的支撑板；所述工作台的正面设有一根水平尺；所述工作台的左侧面通过铰接轴转动连接在支撑板的竖直板部内侧面上；所述支撑板的竖直板部的内侧面上还设有两根水平设置的导轨和一根位于两根导轨之间，且水平设置的螺纹杆，其中所述螺纹杆的一端通过轴承转动连接在支撑板的竖直板部内侧面上；本实用新型可以通过调节螺纹杆使整个工作台处于水平状态，从而保证涂覆胶的厚度均匀。

技术领域

本实用新型涉及晶圆片光刻技术领域，尤其涉及一种光刻机用晶圆片匀胶装置。

背景技术

光刻工艺总共包括晶片匀胶(即涂覆胶层）、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等步骤，其中，匀胶是为了使分布于晶片上的光刻胶分布均匀并能达到一定厚度，以便曝光时晶片表面的光刻胶都能得到适当的感光；其中在匀胶时通常都是采用电机带动吸附在真空吸盘上的晶片旋转，从而在离心力的作用下使胶均匀分布在晶圆片上，胶膜涂敷厚度可根据电机旋转轴的速度来进行控制。

但是由于工作台在安装时可能不是处于水平状态，如此真空吸盘便不是水平状态，所以在电机旋转时，吸盘产生的离心力便不在水平面方向上，从而会使涂覆胶分布的不均匀，导致晶片上的胶层的厚度不一，从而大大影响后续的光刻工艺。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种晶圆片清洗装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种光刻机用晶圆片匀胶装置，包括工作台、固定连接在工作台上的电机，以及水平设于电机主轴上的真空吸盘，还包括一个L形的支撑板；所述工作台的正面设有一根水平尺；所述工作台的左侧面通过铰接轴转动连接在支撑板的竖直板部内侧面上；所述支撑板的竖直板部的内侧面上还设有两根水平设置的导轨和一根位于两根导轨之间，且水平设置的螺纹杆，其中所述螺纹杆的一端通过轴承转动连接在支撑板的竖直板部内侧面上；所述导轨上滑动连接有一个滑块；所述螺纹杆贯穿滑块，且与滑块螺纹连接；所述工作台的下底面和支撑板的水平板部的上表面之间固定连接有拉簧；所述工作台右侧面为斜向右上方的倾斜面；所述滑块的上表面也为与所述工作台的倾斜面相适配的倾斜面。

优选的，所述真空吸盘内部具有中空腔，且上表面具有若干与中空腔连通的吸孔；所述中空腔还与真空发生器连接。

优选的，所述支撑板的竖直板部上部设有一个水平朝向真空吸盘上方的喷头，所述喷头连接有风机。

优选的，所述螺纹杆的右端固定连接有转柄。

较之现有技术，本实用性的优点在于：

本实用新型通过设置水平尺可以直观的观测到整个工作台是否处于水平状态，再通过设置螺纹杆和滑块可以对整个工作台进行水平调节，当处于不水平状态时，可以旋转螺纹杆，从而通过滑块和工作台的倾斜面带动工作台右端上升或下降，直至其处于水平状态，从而可以保证后续匀胶过程使硅胶的厚度不会出现太大的偏差。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型主视图；

图3为本实用新型工作台下方的左视截面图。

图中：1、真空吸盘；101、吸孔；102、中空腔；103、真空发生器；2、工作台；3、电机；4、支撑板；5、铰接轴；6、导轨；7、螺纹杆；8、滑块；9、拉簧；10、水平尺；11、风机；12、喷头；13、转柄。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。