[实用新型]一种硅片自动涂源生产线

说明书

本实用新型提供一种硅片自动涂源生产线，包括涂硼装置、第一烘干炉、涂磷装置、第二烘干炉和洒粉单元，涂硼装置与第一烘干炉之间、第一烘干炉与涂磷装置之间、涂磷装置与第二烘干炉之间、第二烘干炉与洒粉单元之间均设有第一转运机械手，第一烘干炉的下游一端设有硅片翻转机构。该硅片自动涂源生产线自动化程度高，硅片涂源的多个过程自动进行，无需配备大量专人人工操作，失误率低，涂敷效率高，涂料均匀，产品合格率高。

技术领域

本实用新型属于硅片生产设备领域，尤其是涉及一种硅片自动涂源生产线。

背景技术

随着半导体行业的迅速发展，半导体硅片产能日趋扩大。半导体硅片制作过程中需要对硅片涂覆扩散源，以形成PN结，而现有技术中，多使用手动涂覆的方法完成，由于硅片生产时会涉及到多种作业流程，导致产品效率与质量都有待提高，目前手动涂敷的操作方法存在：人工作业失误率高；需配备专人进行操作；手动涂敷效率低的问题，因此，为解决人工涂敷造成的涂料不均匀质量问题，需求一种自动化设备实现圆形硅片自动涂敷功能，使硅片进行均匀涂敷，避免由于人员问题造成的不合格产品，实现稳定高效产出。

发明内容

本实用新型要解决的问题是提供一种硅片自动涂源生产线，硅片扩散源的涂覆自动化程度高，产品合格率高，生产效率高。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种硅片自动涂源生产线，包括涂硼装置、第一烘干炉、涂磷装置、第二烘干炉和洒粉单元，涂硼装置与第一烘干炉之间、第一烘干炉与涂磷装置之间、涂磷装置与第二烘干炉之间、第二烘干炉与洒粉单元之间均设有第一转运机械手，第一烘干炉的下游一端设有硅片翻转机构。

技术方案中，优选的，还包括上料线，上料线与涂硼装置之间设有第二转运机械手，上料线包括满载上料线、第一硅片承载装置翻转机构和空载流出线，第一硅片承载装置翻转机构设于满载上料线的下游一端。

技术方案中，优选的，还包括下料线，下料线与洒粉单元之间设有第三转运机械手，下料线包括空载流入线、满载流出线和第二硅片承载装置翻转机构，空载流入线的下游一端与满载流出线的上游一端之间设有移动轴，第二硅片承载装置翻转机构可移动设于移动轴上。

技术方案中，优选的，涂硼装置包括第一机台、第一喷嘴、第一托盘、第一升降机构和第一旋转机构，第一托盘底部与第一升降机构的升降轴连接，第一升降机构的底部与第一旋转机构的旋转轴连接，第一旋转机构固定于第一机台上，第一喷嘴设于第一托盘上方。

技术方案中，优选的，涂磷装置包括第二机台、第二喷嘴、第二托盘、第二升降机构和第二旋转机构，第二托盘底部与第二升降机构的升降轴连接，第二升降机构的底部与第二旋转机构的旋转轴连接，第二旋转机构固定于第二机台上，第二喷嘴设于第二托盘上方。

技术方案中，优选的，洒粉单元包括第三机台、第三托盘、第三升降机构和震动洒粉单元，第三升降机构设于第三机台上，第三升降机构的升降轴与第三托盘底部连接，震动洒粉单元设于第三托盘上方。

技术方案中，优选的，第一烘干炉包括第一炉体和第一传送带，第一传送带设于第一炉体内，第一炉体上设有第一送风马达和第一排风马达。

技术方案中，优选的，第二烘干炉包括第二炉体和第二传送带，第二传送带设于第二炉体内，第二炉体上设有第二送风马达和第二排风马达。

技术方案中，优选的，涂硼装置与上料线之间还设有第一碎片筛选装置，第一碎片筛选装置包括来料提升机、第一光源、第一图像采集装置和第一碎片收集盒，来料提升机设于花篮翻转机构翻转之后下游一端，来料提升机与第一碎片收集盒之间设有第四转运机械手。

技术方案中，优选的，硅片翻转机构与涂磷装置之间还设有第二碎片筛选装置，第二碎片筛选装置包括第二光源、第二图像采集装置和第二碎片收集盒，硅片翻转机构与第二碎片收集盒之间设有第五转运机械手。