[实用新型]用于确定储罐中的物品的填充料位的雷达料位计系统有效
申请号: | 201721221196.2 | 申请日: | 2017-09-21 |
公开(公告)号: | CN207798207U | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 奥洛夫·爱德华松 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特储罐雷达股份公司 |
主分类号: | G01F23/284 | 分类号: | G01F23/284 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 陈炜;李德山 |
地址: | 瑞典默*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 间隔件 反射信号 探针 间隔件装置 填充料位 多导体 雷达料位计 发射信号 探针导体 储罐 反射 处理电路系统 收发器 探针端 配置 延伸 | ||
1.一种用于确定储罐中的物品的填充料位的雷达料位计系统,所述雷达料位计系统的特征在于包括:
收发器,其用于生成、发射和接收具有频带内的中心频率的电磁信号;
多导体探针,其电耦接至所述收发器,并且被布置和配置成:将来自所述收发器的电磁发射信号朝向所述储罐中的物品引导并将所述电磁发射信号引导至所述物品中,并且将由所述发射信号在所述物品的表面处的反射所产生的电磁表面回波信号朝向所述收发器返回,所述多导体探针包括一起从上部探针端延伸至下部探针端的第一探针导体和第二探针导体;
沿着所述多导体探针分布的多个间隔件,其用于控制所述第一探针导体与所述第二探针导体之间的位置关系;以及
处理电路系统,其用于基于所述发射信号和所述表面回波信号来确定所述填充料位,
其中,所述多个间隔件中的每个间隔件被配置成允许流体沿着所述多导体探针流过所述间隔件,以及
其中,所述多个间隔件中的每个间隔件具有沿着所述多导体探针的间隔件延伸范围,所述间隔件延伸范围与所述发射信号在所述中心频率处的波长的至少四分之一对应。
2.根据权利要求1所述的雷达料位计系统,其特征在于,沿着所述多导体探针的所述间隔件延伸范围与所述发射信号在所述中心频率处的波长的至少一半对应。
3.根据权利要求1或2所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件被配置成使得:所述多导体探针的阻抗在所述间隔件延伸范围内变化。
4.根据权利要求3所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件被配置成使得:所述多导体探针在所述间隔件延伸范围内呈现具有第一阻抗的第一探针部、具有第二阻抗的第二探针部以及在所述第一探针部与所述第二探针部之间的具有第三阻抗的第三探针部,所述第三阻抗低于所述第一阻抗和所述第二阻抗。
5.根据权利要求3所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述阻抗在所述间隔件延伸范围内基本上连续地变化。
6.根据权利要求5所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件围绕所述第一探针导体螺旋缠绕。
7.根据权利要求6所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件围绕所述第一探针导体螺旋缠绕少于一个完整的绕转。
8.根据权利要求1或2所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件包括:
第一间隔件部,其被配置成将所述发射信号反射为在所述中心频率下具有第一幅度的第一间隔件反射信号;以及
第二间隔件部,其被配置成将所述发射信号反射为在所述中心频率下具有第二幅度的第二间隔件反射信号,
其中,所述第一间隔件部和所述第二间隔件部沿着所述多导体探针被布置成使得:所述第一间隔件反射信号和所述第二间隔件反射信号相互作用以提供组合的间隔件反射信号,该组合的间隔件反射信号在所述中心频率下的幅度低于所述第一幅度和所述第二幅度中的每个幅度。
9.根据权利要求8所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述第一间隔件部和所述第二间隔件部中的至少一个与所述第一探针导体和所述第二探针导体机械接触,以局部地控制所述第一探针导体与所述第二探针导体之间的所述位置关系。
10.根据权利要求8所述的雷达料位计系统,其特征在于,所述多个间隔件中的每个间隔件还包括:
在所述第一间隔件部与所述第二间隔件部之间的第三间隔件部,所述第三间隔件部被配置成将所述发射信号反射为在所述中心频率下具有第三幅度的第三间隔件反射信号,所述第三幅度高于所述第一幅度和所述第二幅度,
其中,所述第一间隔件部、所述第二间隔件部以及所述第三间隔件部沿着所述多导体探针被布置成使得:所述第一间隔件反射信号、所述第二间隔件反射信号以及所述第三间隔件反射信号相互作用以提供组合的间隔件反射信号,该组合的间隔件反射信号在所述中心频率下的幅度低于所述第三幅度。
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