[实用新型]反应釜气体分布器有效

专利信息
申请号: 201721209029.6 申请日: 2017-09-20
公开(公告)号: CN207221880U 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 郑云满 申请(专利权)人: 江西贝美药业有限公司
主分类号: B01J4/00 分类号: B01J4/00;B01J10/00
代理公司: 南昌赣专知识产权代理有限公司36129 代理人: 张文宣,文珊
地址: 334500 江*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 反应 气体 分布
【说明书】:

技术领域

实用新型属于化工技术领域,具体涉及一种反应釜气体分布器。

背景技术

气体分布器是使气体通入液体时能够均匀分布在其中的装置,一些化工领域的反应釜中经常配合使用气体分布器,通入的气体可以与反应釜内的溶液进行反应得到所需的化工产物,或是为反应过程提供某种有利的环境,气体分布器工作时是将大股的圆柱空气流分成许多细股的空气流,在搅拌器的配合下粉碎成更小气泡,气体气泡的粉碎主要依靠搅拌器的强制剪切来进行破碎,而当气体分布器的出气孔较大或是通入的气体量较大时,搅拌轴剪切的阻力越大,反应釜内溶液的混合搅拌便会受到影响,且由于一些气体分布器的体积过大会影响附近的溶液与气泡的接触,导致气体的分布效果不够均匀。

实用新型内容

本实用新型提供了一种结构简单,方便使用的气体分布器,可以将气体缓冲分散为更小的气泡,使气体分布器附近的溶液能够均匀的接触气泡。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种反应釜气体分布器,包括进气管、上盖板、缓冲室、下盖板、通气管和连接管,所述上盖板与下盖板上均分布有若干气孔,所述上盖板设置在缓冲室的顶部,所述下盖板设置在缓冲室的底部,所述缓冲室是由缓冲室侧壁、以及顶部的上盖板和底部的下盖板围成的空间,所述缓冲室侧壁上设置有若干个缓冲孔;所述上盖板的中心连接有进气管,所述进气管与缓冲室连通;所述缓冲室下方的下盖板上设置有若干通气管,所述通气管与缓冲室连通,所述通气管通过连接管连接有泡帽,所述泡帽上沿圆周方向设置有若干个排气孔。

作为优选,所述缓冲室侧壁包括若干个“V”形的隔板和连接板,隔板之间通过连接板连接,所述缓冲孔设置在隔板上。

作为优选,所述缓冲室是包括六个相同隔板和六个连接板。

作为优选,所述泡帽的形状为伞形,所述泡帽中心截面的顶角为a,所述顶角a的角度范围为90°至120°。

作为优选,所述排气孔的直径范围为1mm~2mm。

有益效果:

本实用新型的气体分布器设置有缓冲室,缓冲室是由缓冲室侧壁、以及顶部的上盖板和底部的下盖板围成的空间,缓冲室侧壁上设置有缓冲孔,上盖板和下盖板上均设置有气孔,在缓冲的同时使周围的液体能够与气体进行均匀的接触,且缓冲室下方设置有与其连通的通气管,通气管上设置有泡帽,气体通过泡帽的排出,使气体不会大块地排出。

缓冲室侧壁包括若干个“V”形的隔板和连接板,V形的隔板增加了与液体的接触面积,且隔板上设置有缓冲孔,便于周围的液体与气泡的接触,隔板之间通过连接板连接,增大了缓冲室的体积;泡帽为伞形,中心截面的顶角为a,a 的角度范围为90°至120°,使气体沿这个角度范围内的方向排出,有利于气体在溶液中的分布。

附图说明

图1本实用新型气体分布器的结构示意图;

图2为图1中缓冲室沿A-A线的剖视图;

图3为图1中泡帽沿B-B线的剖视图;

附图标注:1-进气管、2-上盖板、3-气孔、4-缓冲室、41-缓冲室侧壁、411- 隔板、412-连接板、5-缓冲孔、6-下盖板、7-通气管、8-泡帽、9-连接管、81-排气孔。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的实施例。

如图1至3所示一种反应釜气体分布器,包括进气管1、上盖板2、缓冲室4、下盖板6、通气管7和连接管9,所述上盖板2与下盖板6上均分布有若干气孔 3,所述上盖板2设置在缓冲室4的顶部,所述下盖板6设置在缓冲室4的底部,所述缓冲室4是由缓冲室侧壁41、以及顶部的上盖板2和底部的下盖板6围成的空间,所述缓冲室侧壁41上设置有若干个缓冲孔5;所述上盖板2的中心连接有进气管1,所述进气管1与缓冲室4连通;所述缓冲室4下方的下盖板6上设置有若干通气管7,所述通气管7与缓冲室4连通,所述通气管7通过连接管 9连接有泡帽8,所述泡帽8上沿圆周方向设置有若干个排气孔81。

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