[实用新型]辐射装置及辐射检查系统有效

专利信息
申请号: 201721201313.9 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN207263941U 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 闫雄;刘铮;高超 申请(专利权)人: 北京君和信达科技有限公司
主分类号: G01V5/00 分类号: G01V5/00;G01N23/04
代理公司: 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11452 代理人: 屠长存
地址: 100088 北京市西*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 辐射 装置 检查 系统
【权利要求书】:

1.一种辐射装置,其特征在于,包括:

扫描装置,用于向检测区域发射扫描射线束;以及

衰减装置,具有多种工作模式,不同工作模式下所述衰减装置对所述扫描装置发射的不同部分的扫描射线束的强度进行衰减,以使得经过衰减后的扫描射线束入射到所述检测区域中的被检测物体上的相应部位的吸收剂量率低于预设阈值。

2.根据权利要求1所述的辐射装置,其特征在于,所述扫描装置包括:

辐射源,用于发射射线束;

准直器,其上设有束流缝,所述辐射源发射的射线束经过所述束流缝后形成向所述检测区域发射的扫描射线束。

3.根据权利要求2所述的辐射装置,其特征在于,所述衰减装置包括多个衰减单元,所述多个衰减单元分别对应于所述束流缝的不同部位,每个所述衰减单元用于对从其对应的部位的束流缝出射的扫描射线束的强度进行衰减。

4.根据权利要求3所述的辐射装置,其特征在于,每个所述衰减单元包括:

衰减块;以及

驱动装置,用于驱动所述衰减块遮挡其对应的部位的束流缝,以对从该部位的束流缝出射的扫描射线束的强度进行衰减,并且/或者,驱动所述衰减块远离其对应的部位的束流缝,以使得从该部位的束流缝出射的扫描射线束能够正常入射到所述检测区域。

5.根据权利要求4所述的辐射装置,其特征在于,

所述衰减块垂直于从所述束流缝出射的扫描射线束的传播方向上的宽度大于或等于其所对应的所述束流缝的缝宽。

6.根据权利要求4所述的辐射装置,其特征在于,

所述衰减块沿着从所述束流缝出射的扫描射线束的传播方向上的厚度被设置为,使得从其对应的部位的束流缝出射的扫描射线束的强度经过所述衰减块的衰减作用后,入射到所述检测区域中的被检测物体上的相应部位的吸收剂量率低于预设阈值,并且/或者

所述衰减块沿着所述束流缝的方向上的长度基于所述衰减块与所述辐射源之间的距离以及所述衰减块所对应的扫描射线束的辐射角度确定。

7.根据权利要求2所述的辐射装置,其特征在于,所述扫描装置还包括:

屏蔽装置,用于对所述辐射源发射的未射向所述检测区域的射线束进行屏蔽;以及/或者

开关装置,用于控制所述辐射源发射的射向所述检测区域的射线束的遮挡状态。

8.一种辐射检查系统,用于对沿着辐射检查通道限定的行进方向行进的被检测物体进行辐射检查,其中,所述被检测物体包括需检测部分和检测规避部分,其特征在于,该辐射检查系统包括:

权利要求1-7中任何一项所述的辐射装置,设置在辐射检查通道内的辐射检查位置处,用于向检测区域发射所述扫描射线束;以及

一个或多个探测器,设置在所述辐射检查通道内的预定位置,用于接收从所述检测区域中的被检测物体透射或散射的成像射线束,

在所述被检测物体的检测规避部分经过所述检测区域的过程中,所述衰减装置对所述扫描装置发射的对应于所述检测规避部分的扫描射线束的强度进行衰减,以使得所述检测规避部分的吸收剂量率低于预设阈值。

9.根据权利要求8所述的辐射检查系统,其特征在于,

所述辐射装置设置在所述辐射检查通道的顶部,所述一个或多个探测器设置在所述辐射检查通道的底部和/或侧部,或者,

所述辐射装置设置在所述辐射检查通道的底部,所述一个或多个探测器设置在所述辐射检查通道的顶部和/或侧部,或者

所述辐射装置设置在所述辐射检查通道的一侧,所述一个或多个探测器设置在所述辐射检查通道的顶部和/或底部和/或侧部。

10.根据权利要求9所述的辐射检查系统,其特征在于,

所述一个或多个探测器的探测面基本上垂直于所述扫描射线束的传播方向,并且/或者,

所述一个或多个探测器的探测面上的基本属于同一方向的中心线基本在一个平面内。

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