[实用新型]喷嘴清洗装置及晶圆清洗装置

说明书

本实用新型提供一种喷嘴清洗装置，包括清洗槽、所述清洗槽上表面设置有开口；设置在所述清洗槽至少一侧面的冲洗管，所述冲洗管的出液管口朝向所述喷嘴；设置在所述清洗槽至少一侧面的进口，所述进口连接所述冲洗管。所述喷嘴清洗装置可以自动清洗喷嘴，不用人工干预，节省人工成本。

技术领域

本实用新型涉及一种半导体工艺装置，尤其涉及一种喷嘴清洗装置及晶圆清洗装置。

背景技术

在集成电路工艺制造中，晶体三极管、二极管、电容、电阻以及金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留特征图形的部分。光刻工艺(Lithographic Process)生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件(parts)的关联正确。

在光刻掩膜形成的步骤中，需要对晶圆或掩膜上涂抹一层物质，如光刻胶等，然后对晶圆进行下一步处理，光刻胶显影后晶圆表面会留有残留物质，通常是采用喷嘴对晶圆进行冲洗，现有技术中的喷嘴为长条形结构或圆柱形结构，包括外部固定装置和多个的喷头，所述外部固定装置固定设置所述喷头上。在清洗的步骤中，将所述喷嘴对准晶圆，匀速运动的同时进行旋转、冲洗。然而，在长时间使用后，所述喷嘴的喷头中会有很多残留物，残留物会阻塞喷头，使残留物喷射到晶圆上，在旋转作用下，残留物以近似环状分布在晶圆表面上，在晶圆上形成环状残留缺陷(如图1所示)，对后续工艺造成影响，甚至损坏晶圆。

为了保证光刻步骤的顺利进行，需要定期清洁喷嘴。普通的清洗可以是直接对喷嘴进行擦拭，不需拆卸喷嘴，但长时间使用后，擦洗不到的污垢长期堆积在喷嘴内部，这时普通的擦拭就不能彻底清洗喷嘴了，就需要必要的清洗，现有技术中是将喷嘴从固定装置上全部拆卸下来，再将喷嘴放到清洗池中用化学物质进行清洗，达到彻底清除喷嘴上的污垢。

然而，现有技术中拆卸喷嘴、清洗喷嘴的清洗步骤会产生以下几个问题：1、安装喷嘴的工序非常复杂，每次清洗都要拆卸和重新安装，故清洗过程浪费时间，降低效率；2、所述喷嘴的喷头非常脆弱，在拆卸安装的过程中非常容易收到损坏；3、所述喷嘴安装到固定装置时需要对准安装基线，由于安装工序复杂，会造成固定装置没有对准基线，一旦没有对准，就会使所述喷嘴的喷出的物质不均匀，影响后续工艺，甚至造成损失。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是，提供一种在清洗喷嘴过程中不需要拆卸就可以自动清洗喷嘴的装置。

为解决上述问题，本实用新型提供一种喷嘴清洗装置，包括清洗槽、所述清洗槽上表面设置有开口；设置在所述清洗槽至少一侧面的冲洗管，所述冲洗管的出液管口朝向所述喷嘴；设置在所述清洗槽至少一侧面的进口，所述进口连接所述冲洗管。

可选地，所述喷嘴清洗装置的进口中通入有去离子水和保护气体。

可选地，所述进口包含第一区和至少部分设置于所述第一区内的第二区。

可选地，所述冲洗管的喷射方向与水平方向的夹角为5度-20度。

可选地，所述进口还包含第一入口、第二入口，通过所述第一入口向所述清洗槽通入所述去离子水，通过所述第二入口向所述清洗槽通入所述保护气体。

可选地，所述喷嘴清洗装置还包括流量控制装置，所述流量控制装置用于控制所述保护气体及所述去离子水的流量。

可选地，所述清洗槽上表面的开口面积占所述清洗槽上表面面积的5％-50％。

可选地，所述清洗槽长度为20cm-40cm，宽度为8cm-15cm，高度为10-30cm。

可选地，所述清洗槽的材料为不锈钢。

可选地，所述喷嘴清洗装置上还设置有固定装置，所述固定装置用于将所述喷嘴固定在所述清洗装置上。