[实用新型]喷嘴清洗装置及晶圆清洗装置有效
| 申请号: | 201721193371.1 | 申请日: | 2017-09-18 |
| 公开(公告)号: | CN207357663U | 公开(公告)日: | 2018-05-15 |
| 发明(设计)人: | 王春峰 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 侯莉;毛立群 |
| 地址: | 300385*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 喷嘴 清洗 装置 | ||
1.一种喷嘴清洗装置,其特征在于,包括清洗槽、所述清洗槽上表面设置有开口;
设置在所述清洗槽至少一侧面的冲洗管,所述冲洗管的出液管口朝向所述喷嘴;
设置在所述清洗槽至少一侧面的进口,所述进口连接所述冲洗管。
2.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述喷嘴清洗装置的进口中通入有去离子水和保护气体。
3.如权利要求2所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述进口包含第一区和至少部分设置于所述第一区内的第二区。
4.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述冲洗管的喷射方向与水平方向的夹角为5度-20度。
5.如权利要求2中所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述进口还包含第一入口、第二入口,通过所述第一入口向所述清洗槽通入所述去离子水,通过所述第二入口向所述清洗槽通入所述保护气体。
6.如权利要求2中所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述喷嘴清洗装置还包括流量控制装置,所述流量控制装置用于控制所述保护气体及所述去离子水的流量。
7.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述清洗槽上表面的开口面积占所述清洗槽上表面面积的5%-50%。
8.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述清洗槽长度为20cm-40cm,宽度为8cm-15cm,高度为10-30cm。
9.如权利要求1至8中任意一项所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述清洗槽的材料为不锈钢。
10.如权利要求1至8中任意一项所述的喷嘴清洗装置,其特征在于,所述喷嘴清洗装置上还设置有固定装置,所述固定装置用于将所述喷嘴固定在所述喷嘴清洗装置上。
11.一种晶圆清洗装置,包括如权利要求1-10任意一项所述的喷嘴清洗装置。
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