[实用新型]一种自动去膜机

说明书

本实用新型公开了一种自动去膜机，包括：一机架；一浸泡槽，浸泡槽内设有NaOH溶液；一去膜槽，去膜槽设置于浸泡槽槽的一侧；一高压喷淋装置，高压喷淋装置具有若干喷射NaOH溶液的喷头；一滑动导轨，滑动导轨水平地固定在机架的上侧；一滑动支架，滑动支架位于滑动导轨的一侧，滑动支架的上端的中部固定有一滑动块；一上下气缸和一机械手，上下气缸的缸体固定在滑动支架相对于滑动导轨的另一端，上下气缸的活塞杆与机械手固定连接；一无杆气缸，无杆气缸水平的固定在机架上，滑动支架相对于上下气缸的另一端固定有一第一磁块，无杆气缸内设有一第二磁块。本实用新型的膨松槽的NaOH溶液使得产品上的膜膨松，在去膜槽中采用高压喷淋把已经膨松的膜去除。

技术领域

本实用新型涉及去膜的技术领域，尤其涉及一种去膜机。

背景技术

当今，蚀刻技术已经运用到了传统加工行业，并且在半导体和印刷版的加工中更是不能缺少。蚀刻机广泛使用化学溶液，蚀刻后的产品上会残留化学溶液，影响产品的质量。

实用新型内容

针对上述产生的问题，本实用新型的目的在于提供一种自动去膜机。

为了实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种自动去膜机，其中，包括：一机架；一浸泡槽，所述浸泡槽设置在所述机架的下部，所述浸泡槽内设有NaOH溶液；一去膜槽，所述去膜槽设置于所述浸泡槽槽的一侧；一高压喷淋装置，所述高压喷淋装置设置在所述去膜槽内，所述高压喷淋装置具有若干用于喷射NaOH溶液的喷头；一滑动导轨，所述滑动导轨水平地固定在所述机架的上侧，所述滑动导轨设置在所述浸泡槽与所述去膜槽的正上方；一滑动支架，所述滑动支架位于所述滑动导轨的一侧，所述滑动支架的上端的中部固定有一滑动块，所述滑动块与所述滑动导轨相匹配，所述滑动块与所述滑动导轨可滑动连接；一上下气缸和一机械手，所述上下气缸的缸体固定在所述滑动支架相对于所述滑动导轨的另一端，所述上下气缸的活塞杆与所述机械手固定连接；一无杆气缸，所述无杆气缸水平的固定在所述机架上，所述滑动支架相对于所述上下气缸的另一端固定有一第一磁块，所述第一磁块位于所述无杆气缸的下方，所述无杆气缸内设有一第二磁块，所述第二磁块与所述第一磁块相配合，所述第二磁块与所述无杆气缸可滑动连接。

上述的自动去膜机，其中，所述浸泡槽内的NaOH溶液的温度和所述高压喷淋装置喷射的NaOH溶液的温度均高于80℃。

上述的自动去膜机，其中，所述浸泡槽内的NaOH溶液的pH和所述高压喷淋装置喷射的NaOH溶液的pH均大于10。

上述的自动去膜机，其中，所述去膜槽的一侧设置有一污水处理槽，所述去膜槽与所述污水处理槽通过管道连通。

上述的自动去膜机，其中，所述去膜槽的高度高于所述污水处理槽的高度。

上述的自动去膜机，其中，所述机械手包括有一连接结构和一吸取装置。

上述的自动去膜机，其中，所述连接结构与所述上下气缸的活塞杆固定连接，所述连接结构与所述吸取装置固定连接。

上述的自动去膜机，其中，所述高压喷淋装置与所述去膜槽可拆卸连接。

上述的自动去膜机，其中，所述无杆气缸与所述滑动导轨相平行。

本实用新型由于采用上述技术，使之与现有技术相比具有的积极效果是：

(1)本实用新型的浸泡槽的NaOH溶液使得产品上的膜膨松，在去膜槽中采用高压喷淋把已经膨松的膜去除，效率高。

附图说明

图1是本实用新型的自动去膜机的局部示意图。

图2是本实用新型的自动去膜机的滑动机构的示意图。