[实用新型]一种晶片清洗机供水系统

说明书

本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种晶片清洗机供水系统。本实用新型结构简单，电阻率测试仪能对水箱中的纯水进行实时的监控测量，并及时反馈纯水的电阻率是否达标，如果电阻率过低则会引发声光报警器工作，及时提醒工作人员进行相应处理，可有效防止出现不达标的纯水对晶片产生影响，影响后续生产；本实用新型设置有加热装置和支路加热器，能有效避免由于供水管道过长使得所供水的水温降低，满足不了晶片清洗的水温要求，支路加热器的设置能有效保障所供应的纯水在清洗晶片的过程中降低半导体晶片表面中的金属杂质水平和粒子水平，清洗干净，保障工作效率。

技术领域

本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种晶片清洗机供水系统。

背景技术

随着半导体市场竞争的日趋激烈，降低能耗、节约成本、提升良率成为技术发展的核心，为了在清洗过程中降低半导体晶片表面中的金属杂质水平和粒子水平，需要保证所供应的水电阻率不能过低，因此需对所供应水的电阻率进行监测，现有的技术中不能实现，需要对其进行改进；另外，由于供水管道较长，当加热后的水经过较长的水管后进入清洗机可能已经达不到所要求的温度，由于水温不达标，可能会造成晶片清洗不干净，需要重新返工或进行二次清洗，影响工作效率。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型提供一种结构简单、实时监测水质电阻率且有效保证水温的晶片清洗机供水系统。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种晶片清洗机供水系统，包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设置有电阻率测试仪，所述电阻率测试仪连接声光报警器，各所述支路包括依次连接的支路加热器和支路清洗机。

进一步地，所述支路加热器与电阻率测试仪之间设置有支路温控器。

进一步地，所述加热装置采用电热膜加热体。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型结构简单，电阻率测试仪能对水箱中的纯水进行实时的监控测量，并及时反馈纯水的电阻率是否达标，如果电阻率过低则会引发声光报警器工作，及时提醒工作人员进行相应处理，可有效防止出现不达标的纯水对晶片产生影响，影响后续生产；

2、本实用新型设置有加热装置和支路加热器，能有效避免由于供水管道过长使得所供水的水温降低，满足不了晶片清洗的水温要求，支路加热器的设置能有效保障所供应的纯水在清洗晶片的过程中降低半导体晶片表面中的金属杂质水平和粒子水平，清洗干净，保障工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图中：1.水箱；2.供水泵；3.温控器；4.加热装置；5.水位感应器；6.报警器；7.流量控制阀；8.电阻率测试仪；9.声光报警器；10.支路温控器；11.支路加热器；12.支路清洗机；13.支路。

具体实施方式

如图1所示的一种晶片清洗机供水系统，包括水箱1，水箱1的中下部设置有加热装置4，加热装置4电连接温控器3，水箱1的侧壁上安装有水位感应器5，水位感应器5电连接报警器6，水箱1的顶端通过供水泵2连接有三路并行支路13，支路13的数量可根据设备及工艺需求配置多个，图1中列举了具有三路并行支路13时的情况，三路并行支路13的进口以并联的形式与水箱的出水管路连接，水箱1与供水泵2之间的管路上安装有流量控制阀7，供水泵2与并行支路7之间的管路上安装有电阻率测试仪8，电阻率测试仪8连接声光报警器9，各支路13包括依次连接的支路加热器11和支路清洗机12。