[实用新型]一种晶片清洗机供水系统有效
| 申请号： | 201721014275.6 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN207325543U | 公开（公告）日： | 2018-05-08 |
| 发明（设计）人： | 张威;马帅 | 申请（专利权）人： | 江苏星浪光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 225600 江苏省扬州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 清洗 供水系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设置有电阻率测试仪，所述电阻率测试仪连接声光报警器，各所述支路包括依次连接的支路加热器和支路清洗机。
2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：所述支路加热器与电阻率测试仪之间设置有支路温控器。
3.根据权利要求1或2任一项所述的一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：所述加热装置采用电热膜加热体。
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