[实用新型]一种蓝宝石衬底片双面抛光装置有效

专利信息
申请号: 201720959000.3 申请日: 2017-08-02
公开(公告)号: CN207372924U 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 向齐涛;沈思情;刘浦锋;宋洪伟;陈猛 申请(专利权)人: 上海超硅半导体有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 201604 上海市松*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 蓝宝石 衬底 双面 抛光 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种蓝宝石衬底片双面抛光装置,所述装置由上至下依次包括上抛光组件、抛光定位模板和下抛光组件;其中上抛光组件包括抛头,抛头顶部设有抛头固定器件以及与抛头固定器件相连的气缸转动轴承,抛头两端设有贯通第一抛头的磨料进入口;所述下抛光组件包括磨盘和抛光承载台,磨盘置于抛光承载台上,所述抛光承载台下方中部设有转动轴承,所述抛光承载台一侧设有贯通抛光承载台的磨料回收管道。本实用新型所述装置可以对贴合的两片蓝宝石衬底片进行单面抛光,增加了一次性抛光的蓝宝石衬底片数量,提高生产效率。

技术领域

本实用新型属于蓝宝石加工领域,涉及一种蓝宝石衬底片双面抛光装置。

背景技术

随着电子和光电行业下游技术的不断进步,对于蓝宝石衬底片的需求量越来越高。在保证加工精度的同时,也要不断地提高生产效率。

当前国内,对晶圆和蓝宝石衬底片的加工以有蜡的化学机械抛光(CMP)为主。有蜡抛光又分固态蜡和液态蜡两种方式,固态蜡的方式使我们对于蓝宝石衬底片的加工精度不好掌控,而液态蜡可以均匀且有效的控制蜡膜厚度跟加工精度,但匀蜡机在涂覆过程中会造成很大一部分废蜡,而且耗时久,效率低。在单面抛光工艺中,一般都是采用将蓝宝石衬底片粘附在陶瓷板上,并通过一定粒径的磨料将蓝宝石衬底片的一面达到抛光的效果。这种方法很大的程度上限制了蓝宝石衬底片单面抛光的生产力。

CN 102513906A公开了一种蓝宝石衬底抛光装置及抛光工艺,其将要抛光的蓝宝石衬底用蜡粘贴在衬底固定盘上,通过单次抛光制得表面粗糙度达到纳米级的蓝宝石衬底。CN 101604666A公开了一种蓝宝石衬底及抛光方法与应用。但是,现有蓝宝石抛光均为单面抛光工艺,贴蜡抛光时间较长其大大降低了蓝宝石的生产效率。并且,在生产过程中会产生大量的废蜡,性能也参差不齐。

因此,如何快速对蓝宝石衬底片进行单面抛光,提高生产效率是亟需解决的问题。

实用新型内容

针对现有蓝宝石衬底片抛光工艺中存在的贴蜡抛光时间长,生产效率低的问题,本实用新型提供了一种蓝宝石衬底片的双面抛光装置。本实用新型所述装置可以对贴合的两片蓝宝石衬底片进行单面抛光,增加了一次性抛光的蓝宝石衬底片数量,提高生产效率。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

本实用新型提供了一种蓝宝石衬底片双面抛光装置,所述装置由上至下依次包括上抛光组件、抛光定位模板和下抛光组件;其中上抛光组件包括抛头,抛头顶部设有抛头固定器件以及与抛头固定器件相连的气缸转动轴承,抛头两端设有贯通第一抛头的磨料进入口;所述下抛光组件包括磨盘和抛光承载台,磨盘置于抛光承载台上,所述抛光承载台下方中部设有转动轴承,所述抛光承载台一侧设有贯通抛光承载台的磨料回收管道。

其中,所述磨料回收管道用于回收抛光过程中流下的磨料;抛光定位模板中放置待抛光的蓝宝石衬底片。

以下作为本实用新型优选的技术方案,但不作为本实用新型提供的技术方案的限制,通过以下技术方案,可以更好的达到和实现本实用新型的技术目的和有益效果。

作为本实用新型优选的技术方案,所述磨料进入口上方设有磨料输送管,其用于向磨料进入口输送磨料。

作为本实用新型优选的技术方案,所述抛光定位模板通过模板固定器件固定于抛光组件和承载组件之间。

作为本实用新型优选的技术方案,所述抛光定位模板与模板固定器件之间通过齿轮咬合。

作为本实用新型优选的技术方案,所述抛头和磨盘上均贴有抛光布。

本实用新型所述的装置的处理方法如下:

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