[实用新型]光波导薄膜及阵列波导光栅

说明书

技术领域

本实用新型涉及光波导薄膜和应用该光波导薄膜的阵列波导光栅。

背景技术

现有技术中的硅基底层二氧化硅薄膜，以包裹有二氧化硅作为薄层材料，其制备工艺采用火焰水解法、热氧化法或等离子体气相沉积法等，然后通过掺杂制备高折射率材料，由于硅和SiO₂热膨胀系数不同，在热处理过程中SiO₂易从硅衬底上脱落或发生卷曲。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种光波导薄膜，旨在解决硅基与二氧化硅之间发生脱落或卷曲的缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种光波导薄膜，应用于阵列波导光栅，其特征在于，所述光波导薄膜包括硅基底层和设于所述硅基底层一侧的二氧化锆芯层、及包裹于所述二氧化锆芯层外表面的二氧化硅层，所述二氧化硅层与所述硅基底层层之间还设有连接层，所述连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，所述连接层在波长为0.750um-1.55um范围内为透明，且折射率为1.40-1.70。。

可选地，连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯，其在波长为0.80um-1.50um范围内为透明，且折射率为1.40-1.58。

可选地，连接层的厚度值为18um-20um。

可选地，连接层的厚度值为19um。

可选地，二氧化锆芯层的厚度值为4.5um-5.5um。

可选地，二氧化锆芯层的厚度值为5um。

可选地，二氧化硅层的厚度值为2.5um-3.5um。

可选地，二氧化硅层的厚度值为3um。

可选地，硅基底层背离所述二氧化锆层的一侧还设有硬涂层，所述硬涂层的厚度为5um。

本实用新型还提供一种阵列波导光栅，包括光波导薄膜，其中该光波导薄膜包括硅基底层和设于所述硅基底层一侧的二氧化锆芯层、及包裹于所述二氧化锆芯层的二氧化硅层，所述二氧化硅层与所述硅基底层层之间还设有连接层，所述连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项或其任意项组合的混合物，所述连接层在波长为0.750um-1.55um范围内为透明，且折射率为1.40-1.70。

本实用新型技术方案的光波导薄膜结构通过在硅基底层和二氧化硅层之间设置连接层，该连接层采用的的材质为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，其质轻性柔，当对二氧化硅层和硅基底层进行热处理时，连接层可有效衔接二氧化硅层和硅基底层，避免二氧化硅层和硅基底层之间直接接触时，因为热膨胀系数差异较大导致脱落或卷曲的缺陷发生。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型光波导薄膜一实施例的结构示意图。

附图标号说明：